| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 三氧化钨的物理特性 | 第8-9页 |
| 1.3 三氧化钨电致变色原理 | 第9-10页 |
| 1.4 三氧化钨合成方法 | 第10-15页 |
| 1.4.1 WO_3晶体薄膜制备方法 | 第10-13页 |
| 1.4.2 非晶态 WO_3薄膜制备方法 | 第13-14页 |
| 1.4.3 复合薄膜制备 | 第14-15页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 实验仪器与与实验方法 | 第16-23页 |
| 2.1 试剂与器材 | 第16页 |
| 2.2 实验设备 | 第16-17页 |
| 2.3 实验方法 | 第17-19页 |
| 2.3.1 镀膜准备工作 | 第17页 |
| 2.3.2 薄膜蒸镀 | 第17-18页 |
| 2.3.3 变色单元组成 | 第18-19页 |
| 2.4 检测仪器 | 第19-23页 |
| 2.4.1 X-射线衍射仪（X-Ray Diffraction） | 第19页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope) | 第19-20页 |
| 2.4.3 原子力显微镜(Atom Force Microscope) | 第20-21页 |
| 2.4.4 Keithley 2400 通用型源表 | 第21页 |
| 2.4.5 紫外-可见分光光度计 | 第21-22页 |
| 2.4.6 电化学测试工作站(Electrochemical Workstation) | 第22-23页 |
| 第三章 WO_3薄膜材料制备及其电致变色性能研究 | 第23-41页 |
| 3.1 WO_3薄膜材料制备 | 第23页 |
| 3.2 样品的形貌与表征 | 第23-25页 |
| 3.3 蒸镀压强为 1mPa 制备的样品及其电致变色性能 | 第25-31页 |
| 3.3.1 薄膜的光学性能 | 第26-29页 |
| 3.3.2 薄膜电致变色响应速度 | 第29-31页 |
| 3.3.3 小结 | 第31页 |
| 3.4 蒸镀压强为 30mPa 制备的样品及其电致变色性能 | 第31-39页 |
| 3.4.1 薄膜的光学性能 | 第32-34页 |
| 3.4.2 薄膜电致变色响应速度与稳定性 | 第34-37页 |
| 3.4.3 薄膜的着色效率 | 第37-39页 |
| 3.4.4 小结 | 第39页 |
| 3.5 蒸镀压强对薄膜电致变色性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 Ag‐WO_3复合薄膜制备及性能 | 第41-50页 |
| 4.1 材料制备 | 第41-43页 |
| 4.1.1 蒸镀 Ag 纳米薄膜 | 第41页 |
| 4.1.2 蒸镀 Ag‐WO_3复合纳米薄膜 | 第41页 |
| 4.1.3 样品的形貌 | 第41-43页 |
| 4.2 薄膜的电致变色性能研究 | 第43-49页 |
| 4.2.1 薄膜的光学性能 | 第43-45页 |
| 4.2.2 薄膜的响应速度与稳定性 | 第45-46页 |
| 4.2.3 薄膜的着色效率 | 第46-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 硕士期间研究成果 | 第55页 |
| 致谢 | 第55页 |
