| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 前言 | 第8-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.1.1 光催化剂发展现状 | 第8页 |
| 1.1.2 纳米光催化剂效应 | 第8-9页 |
| 1.2 TiO_2光催化剂的基本特性 | 第9-11页 |
| 1.3 TiO_2薄膜改性方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 非金属离子掺杂与金属纳米颗粒增强TiO_2光催化性能 | 第11-13页 |
| 1.3.2 TiO_2薄膜半导体复合改性 | 第13-14页 |
| 1.5 TiO_2基纳米复合薄膜制备方法 | 第14-15页 |
| 1.6 课题的研究目的、意义及内容 | 第15-18页 |
| 1.6.1 研究目的及意义 | 第15-16页 |
| 1.6.2 研究内容及路线 | 第16-18页 |
| 2 样品的制备与表征 | 第18-26页 |
| 2.1 实验设备简介 | 第18-19页 |
| 2.2 样品的制备 | 第19-22页 |
| 2.2.1 Ag/TiO_2:N样品的制备 | 第19-21页 |
| 2.2.2 ZnS/TiO_2复合薄膜的制备 | 第21-22页 |
| 2.3 样品的表征及性能测试 | 第22-26页 |
| 2.3.1 微观组织结构分析 | 第22页 |
| 2.3.2 光学性能分析 | 第22-23页 |
| 2.3.3 光催化性能评价 | 第23-26页 |
| 3 改性处理对TiO_2基薄膜光催化性能影响 | 第26-56页 |
| 3.1 微弧氧化对基底粗糙化处理 | 第26-29页 |
| 3.1.1 微弧氧化对基底结构形貌影响 | 第26-28页 |
| 3.1.2 基底粗糙化处理对薄膜光催化性能的影响 | 第28-29页 |
| 3.2 Ag颗粒嵌入对TiO_2:N纳米薄膜光催化性能影响 | 第29-43页 |
| 3.2.1 TiO_2基光催化薄膜N含量的工艺优化 | 第29-35页 |
| 3.2.2 Ag颗粒对Ag/TiO_2:N纳米薄膜结构与性能影响 | 第35-41页 |
| 3.2.3 光催化机理分析 | 第41-42页 |
| 3.2.4 小结 | 第42-43页 |
| 3.3 ZnS/TiO_2纳米复合薄膜结构与光催化性能研究 | 第43-54页 |
| 3.3.1 ZnS功率对ZnS/TiO_2纳米复合薄膜结构与性能影响 | 第43-49页 |
| 3.3.2 TiO_2厚度对ZnS/TiO_2纳米复合薄膜结构与性能影响 | 第49-53页 |
| 3.3.4 ZnS/TiO_2复合薄膜光催化机理 | 第53-54页 |
| 3.4 小结 | 第54-56页 |
| 4 结论 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
