| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第14-15页 |
| 1.2 燃料电池概述 | 第15-16页 |
| 1.3 固体氧化物燃料电池概述 | 第16-18页 |
| 1.3.1 SOFC工作原理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 SOFC的特点 | 第17页 |
| 1.3.3 SOFC的结构类型 | 第17-18页 |
| 1.4 氧化锆的结构及导电机理 | 第18-20页 |
| 1.5 Ni/YSZ阳极材料研究概述 | 第20-25页 |
| 1.5.1 Ni/YSZ阳极材料制备方法概述 | 第22-23页 |
| 1.5.2 Ni/YSZ阳极材料研究进展 | 第23-25页 |
| 1.6 YSZ电解质薄膜制备方法概述 | 第25-27页 |
| 1.7 主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第28-38页 |
| 2.1 实验材料及仪器设备 | 第28-31页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第28-30页 |
| 2.1.2 实验仪器设备 | 第30-31页 |
| 2.2 技术路线及实验过程 | 第31-34页 |
| 2.2.1 实验工艺流程图 | 第31-32页 |
| 2.2.2 Ni/YSZ阳极的制备 | 第32-33页 |
| 2.2.3 电解质薄膜的制备 | 第33-34页 |
| 2.3 样品表征 | 第34-35页 |
| 2.3.1 气孔率 | 第34页 |
| 2.3.2 物相分析 | 第34-35页 |
| 2.3.3 微观形貌分析 | 第35页 |
| 2.3.4 热分析 | 第35页 |
| 2.4 性能测试 | 第35-38页 |
| 2.4.1 密度测试 | 第35-36页 |
| 2.4.2 抗热震测试 | 第36页 |
| 2.4.3 弯曲强度测试 | 第36-38页 |
| 第三章 Bi_2O_3掺杂NiO/YSZ陶瓷低温烧结性能 | 第38-52页 |
| 3.1 实验方案 | 第38-39页 |
| 3.2 Bi_2O_3含量对NiO/YSZ陶瓷宏观结构的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.1 Bi_2O_3含量对线收缩的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.2 Bi_2O_3含量对气孔率的影响 | 第40页 |
| 3.2.3 Bi_2O_3含量对相对密度的影响 | 第40-41页 |
| 3.3 Bi_2O_3含量对NiO/YSZ陶瓷微观结构的影响 | 第41-44页 |
| 3.4 烧结温度和升温速率对Bi_2O_3掺杂NiO/YSZ的影响 | 第44-48页 |
| 3.4.1 烧结温度对Bi_2O_3掺杂NiO/YSZ的影响 | 第44-47页 |
| 3.4.2 升温速率对Bi_2O_3掺杂NiO/YSZ的影响 | 第47-48页 |
| 3.5 Bi_2O_3助烧机理浅析 | 第48-50页 |
| 3.5.1 Bi_2O_3的物理性质和晶体形态 | 第48-49页 |
| 3.5.2 Bi_2O_3助烧机理 | 第49-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 Bi_2O_3掺杂NiO/YSZ陶瓷孔隙结构和性能 | 第52-68页 |
| 4.1 NiO/YSZ陶瓷原料配比 | 第52-53页 |
| 4.2 造孔剂对多孔NiO/YSZ陶瓷的影响 | 第53-58页 |
| 4.2.1 造孔剂对开气孔率的影响 | 第53-55页 |
| 4.2.2 850℃保温时间对开气孔率的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.3 成型压力对开气孔率的影响 | 第56-57页 |
| 4.2.4 造孔剂含量对线收缩率的影响 | 第57-58页 |
| 4.2.5 造孔剂含量对质量烧失率的影响 | 第58页 |
| 4.3 造孔剂对多孔NiO/YSZ微观结构的影响 | 第58-62页 |
| 4.3.1 造孔剂种类对孔结构的影响 | 第58-60页 |
| 4.3.2 造孔剂含量对孔结构的影响 | 第60-61页 |
| 4.3.3 还原前后孔结构对比分析 | 第61-62页 |
| 4.4 NiO/YSZ陶瓷还原前后物相组成分析 | 第62-63页 |
| 4.5 Bi_2O_3和造孔剂含量对NiO/YSZ陶瓷性能影响 | 第63-65页 |
| 4.5.1 Bi_2O_3和造孔剂含量对NiO/YSZ陶瓷弯曲强度的影响 | 第63-64页 |
| 4.5.2 Bi_2O_3和造孔剂含量对NiO/YSZ陶瓷抗热震性的影响 | 第64-65页 |
| 4.6 本章小结 | 第65-68页 |
| 第五章 溶胶凝胶法制备YSZ电解质薄膜 | 第68-74页 |
| 5.1 电解质薄膜物相组成分析 | 第68-69页 |
| 5.2 Si基片上制备电解质薄膜 | 第69-71页 |
| 5.2.1 薄膜形貌分析 | 第69-70页 |
| 5.2.2 旋涂转速和时间对薄膜厚度的影响 | 第70-71页 |
| 5.3 NiO/YSZ阳极支撑电解质薄膜 | 第71-72页 |
| 5.4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第六章 结论及展望 | 第74-76页 |
| 6.1 结论 | 第74-75页 |
| 6.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附录 | 第85-86页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第86页 |
