Si/C多层膜锂离子电池负极材料的研究
| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 锂离子电池发展 | 第9-10页 |
| 1.3 锂离子电池工作原理 | 第10-11页 |
| 1.4 锂离子电池的优点 | 第11-12页 |
| 1.5 锂离子电池正极材料 | 第12-13页 |
| 1.6 电解液 | 第13-14页 |
| 1.6.1 电解液材料的发展趋势 | 第14页 |
| 1.7 隔膜 | 第14-15页 |
| 1.8 负极材料 | 第15-17页 |
| 1.8.1 碳基负极材料 | 第15-16页 |
| 1.8.2 非碳负极材料 | 第16-17页 |
| 1.9 硅负极材料的研究概况 | 第17-22页 |
| 1.9.1 硅负极材料的研究意义 | 第17-18页 |
| 1.9.2 硅的储锂机理 | 第18页 |
| 1.9.3 硅基材料问题和解决途径 | 第18-19页 |
| 1.9.4 硅基复合材料 | 第19-22页 |
| 本文研究内容及选题依据 | 第22-24页 |
| 第二章 薄膜制备方法和表征手段 | 第24-31页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第24-25页 |
| 2.2 碳硅多层膜结构表征手段 | 第25-27页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第25页 |
| 2.2.2 拉曼分析 | 第25-26页 |
| 2.2.3 电子显微分析 | 第26-27页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱分析 | 第27页 |
| 2.3 电池装配以及电化学性能测试 | 第27-31页 |
| 2.3.1 电池装配 | 第27-28页 |
| 2.3.2 电化学性能测试 | 第28-31页 |
| 第三章 碳硅多层膜的制备及其电化学性能的研究 | 第31-40页 |
| 3.1. 引言 | 第31-33页 |
| 3.2 实验方法及仪器 | 第33页 |
| 3.3 碳硅多层膜结构特征 | 第33-35页 |
| 3.3.1 碳硅多层膜结构形貌表征 | 第33-34页 |
| 3.3.2 SAXR测试 | 第34页 |
| 3.3.3 Raman测试 | 第34-35页 |
| 3.3.4 XRD测试 | 第35页 |
| 3.4 碳硅多层膜电化学性能测试 | 第35-38页 |
| 3.4.1 循环伏安测试 | 第35-36页 |
| 3.4.2 充放电曲线图 | 第36-37页 |
| 3.4.3 多层膜循环性能图 | 第37-38页 |
| 3.5 纯硅薄膜负极材料的电化学性能 | 第38-39页 |
| 3.5.1 恒流充放电性能测试 | 第38-39页 |
| 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 多层膜硅碳厚度比对电化学性能的影响 | 第40-54页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 实验方法以及仪器设备 | 第40-41页 |
| 4.3 多层膜结构对储锂性能的影响 | 第41-53页 |
| 4.3.1 多层膜周期厚度对薄膜电化学性能的影响 | 第41-49页 |
| 4.3.2 多层膜总厚度对薄膜电化学性能的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.3 库伦效率随充放电电流密度周期厚度变化 | 第51-53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 掺杂对碳硅多层膜化学性能的影响 | 第54-62页 |
| 5.1 引言 | 第54-55页 |
| 5.2 Ti掺杂薄膜电化学性能测 | 第55-61页 |
| 5.2.1 Ti掺杂500nm纯硅薄膜循环性能 | 第55-56页 |
| 5.2.2 Ti掺杂前后多层膜循环性能 | 第56-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-65页 |
| 6.1 本文创新点 | 第62页 |
| 6.2 得出以下结论 | 第62-63页 |
| 6.3 实验不足 | 第63-64页 |
| 6.4 后期试验计划 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
