| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.1.1 分子印迹技术基本原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 分子印迹材料分类 | 第11-12页 |
| 1.2 溶胶-凝胶技术 | 第12-14页 |
| 1.2.1 溶胶-凝胶法特点 | 第12-13页 |
| 1.2.2 溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化材料的方法 | 第13页 |
| 1.2.3 溶胶-凝胶材料制备过程中反应参数的影响 | 第13-14页 |
| 1.3 分子印迹溶胶-凝胶技术 | 第14-20页 |
| 1.3.1 分子印迹溶胶-凝胶技术的特点 | 第14-15页 |
| 1.3.2 分子印迹溶胶-凝胶材料原材料选择 | 第15-17页 |
| 1.3.3 分子印迹溶胶-凝胶材料制备方法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 硅胶表面修饰的分子印迹溶胶-凝胶技术 | 第18-20页 |
| 1.4 基于环境污染物2,4-二氯苯氧乙酸印迹材料研究近况 | 第20-24页 |
| 1.5 论文选题的目的和意义 | 第24-26页 |
| 第二章 光响应偶氮苯功能单体的制备与表征 | 第26-36页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-30页 |
| 2.2.1 仪器和试剂 | 第27-28页 |
| 2.2.2 4,4’-二羟基偶氮苯(DiOHAZO)的合成 | 第28页 |
| 2.2.3 2,4-二氯苯氧乙酰氯(2,4-DC)的合成 | 第28页 |
| 2.2.4 4-羟基-4’-(2,4-二氯苯氧基乙酰基)偶氮苯(2,4-DAZOOH)的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.5 3-碘丙基三乙氧基硅烷的合成 | 第29页 |
| 2.2.6 4-羟基-4’-(丙基三乙氧基硅烷)偶氮苯(HOAZOSi) | 第29页 |
| 2.2.7 4-(丙基三乙氧基硅烷)-4’-2.4-二氯苯氧乙酰基偶氮苯(2,4-DAZOSi) | 第29-30页 |
| 2.2.8 功能单体光响应性测试 | 第30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-34页 |
| 2.3.1 4,4’-二羟基偶氮苯的合成 | 第30页 |
| 2.3.2 2,4-二氯苯氧乙酰氯(2,4-DC)的合成 | 第30页 |
| 2.3.3 4-羟基-4’-(2,4-二氯苯氧基乙酰基)偶氮苯(2,4-DAZOOH)的合成 | 第30-31页 |
| 2.3.4 4-(丙基三乙氧基硅烷)-4’-2.4-二氯苯氧乙酰基偶氮苯(2,4-DAZOSi) | 第31-32页 |
| 2.3.5 偶氮苯单体的光响应性能 | 第32-34页 |
| 2.4 小结 | 第34-36页 |
| 第三章 有机-无机杂化的分子印迹材料制备及表征 | 第36-52页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-39页 |
| 3.2.1 仪器和试剂 | 第36-37页 |
| 3.2.2 有机无机杂化分子印迹(MIP)材料的制备 | 第37页 |
| 3.2.3 光响应性测试 | 第37页 |
| 3.2.4 动力学吸附研究 | 第37-38页 |
| 3.2.5 Scatchard分析 | 第38页 |
| 3.2.6 特异性识别研究 | 第38页 |
| 3.2.7 光控释放与吸收研究 | 第38-39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-51页 |
| 3.3.1 分子印迹(MIP)材料的制备 | 第39页 |
| 3.3.2 MIP材料及NIP材料的光响应性 | 第39-43页 |
| 3.3.3 材料的动力学吸附吸附 | 第43-44页 |
| 3.3.4 材料的Scatchard分析 | 第44-45页 |
| 3.3.5 材料特异性识别研究 | 第45-46页 |
| 3.3.6 材料光控释放与吸收研究 | 第46-47页 |
| 3.3.7 材料的热重分析 | 第47-48页 |
| 3.3.8 材料的形貌表征 | 第48-49页 |
| 3.3.9 材料的红外分析 | 第49-50页 |
| 3.3.10 材料的孔径分析 | 第50-51页 |
| 3.4 小结 | 第51-52页 |
| 第四章 表面分子印迹材料的制备及表征 | 第52-70页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 4.2.1 仪器和试剂 | 第52-53页 |
| 4.2.2 材料的制备 | 第53页 |
| 4.2.4 动力学吸附研究 | 第53页 |
| 4.2.5 Scatchard分析 | 第53页 |
| 4.2.6 特异性识别研究 | 第53-54页 |
| 4.2.7 光控释放与吸收研究 | 第54页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第54-68页 |
| 4.3.1 表面分子印迹(SMIP)材料的制备 | 第54页 |
| 4.3.2 SMIP材料及SNIP材料的光响应性 | 第54-58页 |
| 4.3.3 动力学吸附研究 | 第58-59页 |
| 4.3.4 Scatchard分析 | 第59-60页 |
| 4.3.5 特异性识别研究 | 第60-61页 |
| 4.3.6 光控释放与吸附研究 | 第61-62页 |
| 4.3.7 材料的热重分析 | 第62-63页 |
| 4.3.8 材料形貌表征 | 第63-65页 |
| 4.3.9 材料的红外分析 | 第65-66页 |
| 4.3.10 材料孔径分析 | 第66-68页 |
| 4.4 小结 | 第68-70页 |
| 第五章 两种印迹方式效果比较 | 第70-74页 |
| 5.1 光响应性 | 第70-71页 |
| 5.2 动力学性质 | 第71-72页 |
| 5.3 吸附能力 | 第72页 |
| 5.4 光控释放与吸收能力 | 第72-73页 |
| 5.5 小结 | 第73-74页 |
| 第六章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 6.1 结论 | 第74页 |
| 6.2 展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 附录1：部分化合物的图谱 | 第82-88页 |
| 附录2：硕士期间完成论文情况 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
