| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 1. 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1. 引言 | 第12-19页 |
| 1.1.1. 马氏体相变 | 第12-13页 |
| 1.1.2. Fe-Pd 合金的马氏体相变 | 第13-17页 |
| 1.1.3. 形状记忆合金 | 第17-18页 |
| 1.1.4. 铁磁性形状记忆合金 | 第18-19页 |
| 1.2. 脉冲电沉积的研究与应用 | 第19-26页 |
| 1.2.1. 电沉积工艺 | 第19页 |
| 1.2.2. 脉冲电沉积的原理 | 第19-22页 |
| 1.2.3. 脉冲电沉积的特点 | 第22-23页 |
| 1.2.4. 脉冲电沉积的参数 | 第23-24页 |
| 1.2.5. 合金共沉积的介绍 | 第24-26页 |
| 1.3. 本文研究的意义与内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 2. 材料制备与实验 | 第32-37页 |
| 2.1. 电沉积制备 | 第32-35页 |
| 2.1.1. 溶液配制 | 第32-33页 |
| 2.1.2. 电极与电解池准备 | 第33-34页 |
| 2.1.3. 电源准备与电沉积参数 | 第34-35页 |
| 2.1.4. 样品处理 | 第35页 |
| 2.2. 分析与性能测定 | 第35-37页 |
| 2.2.1. 扫描电子显微镜观察 | 第35-36页 |
| 2.2.2. 能谱成分分析 | 第36页 |
| 2.2.3. X 射线衍射分析 | 第36页 |
| 2.2.4. 示差扫描量热法分析 | 第36页 |
| 2.2.5. 磁场分析 | 第36-37页 |
| 3. 电沉积工艺与效果浅论 | 第37-53页 |
| 3.1. 电镀液配制的初探 | 第37-40页 |
| 3.1.1. 无添加剂溶液的稳定性探讨 | 第37页 |
| 3.1.2. 无添加剂溶液中实现共沉积的探讨 | 第37-38页 |
| 3.1.3. 采用配位化学的办法稳定 Fe~2+离子 | 第38-39页 |
| 3.1.4. 采用配位化学的方法配置混合溶液的讨论 | 第39-40页 |
| 3.2. 成分表征与探讨 | 第40-47页 |
| 3.2.1. 电流密度 I_p对合金薄膜中 Pd 含量的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.2. 溶液中合金元素离子比例对合金薄膜成分的影响 | 第43-46页 |
| 3.2.3. 其他脉冲电流参数的影响 | 第46页 |
| 3.2.4. 不同阴极材料对薄膜成分的影响 | 第46-47页 |
| 3.3. 合金薄膜的表面形貌 | 第47-50页 |
| 3.3.1. 不锈钢基底上沉积的合金薄膜表面形貌 | 第47-48页 |
| 3.3.2. 铜基底上的合金薄膜形貌 | 第48-49页 |
| 3.3.3. 镀膜厚度对于表面形貌的影响 | 第49-50页 |
| 3.4. 本章小结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 4. Fe-Pd 薄膜的相变与相稳定性 | 第53-66页 |
| 4.1. 沉积态的结构 | 第53-54页 |
| 4.2. Fe-Pd 薄膜在升降温过程中的结构变化 | 第54-58页 |
| 4.3. Fe-Pd 薄膜的相稳定性 | 第58-59页 |
| 4.4. 退火过程中晶格常数变化的讨论 | 第59-62页 |
| 4.5. 本章小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 5. 总结与展望 | 第66-69页 |
| 5.1. 总结 | 第66-67页 |
| 5.2. 展望 | 第67-69页 |
| 6. 致谢 | 第69-70页 |
| 7. 攻读工程硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第70页 |
