中文摘要 | 第4-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第15-63页 |
1.1 引言 | 第15页 |
1.2 甲烷芳构化的研究进展 | 第15-20页 |
1.2.1 甲烷的转化途径和方式 | 第15-17页 |
1.2.2 甲烷芳构化活性组分的选择 | 第17-18页 |
1.2.3 甲烷芳构化分子载体的选择 | 第18-20页 |
1.3 MO/HZSM-5 催化剂在甲烷无氧芳构化反应中的研究 | 第20-40页 |
1.3.1 Mo物种的存在状态及其在分在筛孔道中的分布 | 第20-23页 |
1.3.2 Mo/HZSM-5 催化剂在甲烷无氧芳构化反应当中反应机理的研究 | 第23-28页 |
1.3.3 改善Mo/HZSM-5 催化剂在反应中的稳定性 | 第28-31页 |
1.3.4 催化剂Mo/HZM-5 应用于甲烷无氧芳构化反应中积碳的研究 | 第31-34页 |
1.3.5 不同分子筛作载体制备的Mo基催化剂在甲烷无氧芳构化反应中的研究 | 第34-40页 |
1.4 论文的目的和主要内容 | 第40-43页 |
参考文献 | 第43-63页 |
第二章 实验部分 | 第63-69页 |
2.1 主要原料和试剂 | 第63-64页 |
2.2 主要仪器及测试手段 | 第64-66页 |
2.2.1 主要仪器 | 第64页 |
2.2.2 测试手段 | 第64-66页 |
2.3 催化剂的芳构化活性测试 | 第66-67页 |
2.4 甲烷无氧芳构化中产物的计算 | 第67-69页 |
第三章 MOO_3修饰多级孔TNU-9 催化剂的制备及其在甲烷无氧芳构化反应中的研究 | 第69-85页 |
3.1 引言 | 第69-70页 |
3.2 实验部分 | 第70页 |
3.2.1 多级孔材料TNU-9 的制备 | 第70页 |
3.2.2 研磨法制备Mo/TNU-9 催化剂 | 第70页 |
3.3 TNU-9 材料的表征 | 第70-76页 |
3.4 催化剂MO/TNU-9 在甲烷无氧芳构化反应的催化活性 | 第76-79页 |
3.5 本章小结 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
第四章 纳米级MOO_3修饰ZSM-5 催化剂的制备及其在甲烷无氧芳构化反应中的研究 | 第85-109页 |
4.1 引言 | 第85-87页 |
4.2 实验部分 | 第87-88页 |
4.2.1 纳米MoO_3的制备 | 第87页 |
4.2.2 催化剂Mo/HZSM-5 的制备 | 第87-88页 |
4.3 催化剂的表征 | 第88-94页 |
4.4 催化剂MO/HZSM-5 的催化性能测试 | 第94-101页 |
4.5 本章小结 | 第101-103页 |
参考文献 | 第103-109页 |
第五章 纳米MOO_3修饰的MCM系列分子筛对甲烷无氧芳构化反应的影响 | 第109-137页 |
5.1 引言 | 第109-110页 |
5.2 纳米MOO_3修饰的MCM-22系列分子筛对甲烷无氧芳构化反应的影响 | 第110-121页 |
5.2.1 纳米MoO_3的制备 | 第110-111页 |
5.2.2 分子筛MCM-22的合成 | 第111页 |
5.2.3 催化剂Mo/MCM-22的制备 | 第111页 |
5.2.4 催化剂Mo/MCM-22的表征 | 第111-116页 |
5.2.5 催化剂Mo/MCM-22在甲烷无氧芳构化反应中的反应活性 | 第116-121页 |
5.2.6 小结 | 第121页 |
5.3 纳米MOO_3修饰的MCM-49系列分子筛对甲烷无氧芳构化反应的影响 | 第121-130页 |
5.3.1 纳米MoO_3的制备 | 第121页 |
5.3.2 分子筛MCM-49的合成 | 第121页 |
5.3.3 催化剂Mo/MCM-49的制备 | 第121-122页 |
5.3.4 催化剂Mo/MCM-49的表征 | 第122-126页 |
5.3.5 催化剂Mo/MCM-49在甲烷无氧芳构化反应中的影响 | 第126-129页 |
5.3.6 小结 | 第129-130页 |
5.4 纳米MOO_3修饰的HZSM-5 与MCM系列分子筛在甲烷无氧芳构化反应的催化性能的对比 | 第130-134页 |
5.4.1 分子筛材料的制备 | 第130页 |
5.4.2 固态交换法制备Mo基催化剂 | 第130页 |
5.4.3 几种载体的表征 | 第130-133页 |
5.4.4 催化测试 | 第133-134页 |
5.4.5 小结 | 第134页 |
5.5 本章小结 | 第134-137页 |
参考文献 | 第137-141页 |
结论 | 第141-143页 |
作者简历及在学期间取得的研究成果 | 第143-147页 |
致谢 | 第147页 |