RE（RE=Nd，Ho，Tm）： LiYF4激光晶体生长及性能研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 激光器工作物质 | 第9-13页 |
| 1.2 近红外激光晶体的主要应用 | 第13-15页 |
| 1.3 近红外主要基质晶体 | 第15-21页 |
| 1.4 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第21-24页 |
| 第二章 多晶料合成与性能表征 | 第24-32页 |
| 2.1 原料选择与合成 | 第24-27页 |
| 2.2 多晶料的XRD分析 | 第27-29页 |
| 2.3 多晶料表面氟氧化物的分析 | 第29-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 晶体生长技术 | 第32-70页 |
| 3.1 晶体生长方法 | 第32-35页 |
| 3.2 晶体生长设备 | 第35-37页 |
| 3.3 温场设计的晶体生长动力学的理论分析 | 第37-48页 |
| 3.4 晶体生长温场与工艺参数的初步设定 | 第48-59页 |
| 3.5 晶体退火 | 第59-65页 |
| 3.6 晶体加工 | 第65-69页 |
| 3.7 小结 | 第69-70页 |
| 第四章 晶体缺陷研究 | 第70-85页 |
| 4.1 晶体的缺陷 | 第70-80页 |
| 4.2 晶体开裂理论分析 | 第80-84页 |
| 4.3 小结 | 第84-85页 |
| 第五章 晶体光谱性能 | 第85-105页 |
| 5.1 测试手段 | 第85-86页 |
| 5.2 样品制备及测试设备 | 第86页 |
| 5.3 Nd:LiYF4晶体光谱研究 | 第86-93页 |
| 5.4 Tm:LiYF4晶体光谱研究 | 第93-98页 |
| 5.5 Ho:LiYF4晶体光谱研究 | 第98-100页 |
| 5.6 Tm:Ho:LiYF4晶体光谱研究 | 第100-103页 |
| 5.7 小结 | 第103-105页 |
| 第六章 晶体激光性能 | 第105-117页 |
| 6.1 激光原理 | 第105-108页 |
| 6.2 Nd:LiYF4晶体激光性能测试 | 第108-110页 |
| 6.3 Tm:LiYF4晶体激光性能测试 | 第110-111页 |
| 6.4 Ho:LiYF4晶体激光性能测试 | 第111-113页 |
| 6.5 Tm:Ho:LiYF4晶体激光性能测试 | 第113-115页 |
| 6.6 小结 | 第115-117页 |
| 第七章 结论与展望 | 第117-120页 |
| 7.1 结论 | 第117-118页 |
| 7.2 展望 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-128页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第128-129页 |
| 攻读博士学位期间获奖情况 | 第129-130页 |
| 攻读博士学位期间参加的学术会议 | 第130-131页 |
| 攻读博士学位期间参加的科研课题 | 第131页 |
