| 摘要 | 第11-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 CaB_6的结构、性质及应用 | 第14-18页 |
| 1.1.1 CaB_6的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.1.2 CaB_6的电子结构 | 第15页 |
| 1.1.3 CaB_6的性质及应用 | 第15-17页 |
| 1.1.4 CaB_6的磁学性能 | 第17-18页 |
| 1.2 硼化物纳米薄膜常用制备方法 | 第18-21页 |
| 1.2.1 化学气相沉积法 | 第18-19页 |
| 1.2.2 脉冲激光沉积法 | 第19页 |
| 1.2.3 真空蒸发法 | 第19-20页 |
| 1.2.4 电子束蒸发法 | 第20页 |
| 1.2.5 磁控溅射法 | 第20-21页 |
| 1.3 磁控溅射薄膜生长机制 | 第21-23页 |
| 1.3.1 薄膜生长模型 | 第21-22页 |
| 1.3.2 影响薄膜生长的主要因素 | 第22-23页 |
| 1.4 Ca_(1-x)La_xB_6材料的研究现状 | 第23-27页 |
| 1.4.1 Ca_(1-x)La_xB_6粉末材料的研究进展 | 第23页 |
| 1.4.2 Ca_(1_x)La_xB_6块体材料研究进展 | 第23-24页 |
| 1.4.3 Ca_(1-x)La_xB_6单晶材料研究进展 | 第24-25页 |
| 1.4.4 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜材料研究进展 | 第25-26页 |
| 1.4.5 Ca_(1-x)La_xB_6材料理论计算研究进展 | 第26-27页 |
| 1.5 选题意义及研究内容 | 第27-30页 |
| 第二章 实验方案及研究方法 | 第30-40页 |
| 2.1 技术路线及研究方案 | 第30-31页 |
| 2.2 实验用原材料 | 第31页 |
| 2.2.1 靶材烧结原材料 | 第31页 |
| 2.2.2 基底材料 | 第31页 |
| 2.3 溅射用靶材的制备 | 第31-32页 |
| 2.4 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜的制备 | 第32-34页 |
| 2.5 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜组织结构及性能表征 | 第34-40页 |
| 2.5.1 薄膜结构表征 | 第34-35页 |
| 2.5.2 薄膜表面形貌表征 | 第35-36页 |
| 2.5.3 薄膜成分分析 | 第36-37页 |
| 2.5.4 薄膜分子结构分析 | 第37-38页 |
| 2.5.5 薄膜磁学性能分析 | 第38-40页 |
| 第三章 CaB_6薄膜的制备工艺研究 | 第40-66页 |
| 3.1 靶材制备方法对CaB_6薄膜生长的影响 | 第40-42页 |
| 3.2 氩气气压对CaB_6薄膜生长的影响 | 第42-48页 |
| 3.2.1 氩气气压对薄膜内部晶体结构的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.2 氩气气压对薄膜形貌的影响 | 第44-46页 |
| 3.2.3 氩气气压对薄膜分子结构的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.4 氩气气压对薄膜化学成分的影响 | 第47-48页 |
| 3.3 溅射功率对CaB_6薄膜生长的影响 | 第48-52页 |
| 3.3.1 溅射功率对薄膜内部晶体结构的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.2 溅射功率对薄膜形貌的影响 | 第49-51页 |
| 3.3.3 溅射功率对薄膜分子结构的影响 | 第51-52页 |
| 3.4 基片偏压对CaB_6薄膜生长的影响 | 第52-55页 |
| 3.4.1 基片偏压对薄膜内部晶体结构的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.2 基片偏压对薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.3 基片偏压对薄膜分子结构的影响 | 第54-55页 |
| 3.5 磁控溅射CaB_6薄膜的生长演变 | 第55-64页 |
| 3.5.1 薄膜XRD图谱分析 | 第56-58页 |
| 3.5.2 薄膜精细结构表征 | 第58页 |
| 3.5.3 薄膜表面形貌分析 | 第58-63页 |
| 3.5.4 薄膜生长机理分析 | 第63-64页 |
| 3.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第四章 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜的生长研究 | 第66-84页 |
| 4.1 La掺杂量对Ca_(1-x)La_xB_6薄膜生长的影响 | 第66-74页 |
| 4.1.1 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜表面形貌分析 | 第67-69页 |
| 4.1.2 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜表面粗糙度分析 | 第69-72页 |
| 4.1.3 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜厚度分析 | 第72-73页 |
| 4.1.4 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜表面高度分析 | 第73-74页 |
| 4.2 La掺杂量对Ca_(1-x)La_xB_6薄膜表面化学成分的影响 | 第74-78页 |
| 4.2.1 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜XPS全谱分析 | 第74-75页 |
| 4.2.2 薄膜Ca、La、B元素特征谱分析 | 第75-76页 |
| 4.2.3 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜表面Ca、La、B元素含量分析 | 第76-78页 |
| 4.3 La掺杂量对Ca_(1-x)La_xB_6薄膜分子结构的影响 | 第78-82页 |
| 4.4 本章小结 | 第82-84页 |
| 第五章 Ca_(1-x)La_xB_6薄膜磁学性能研究 | 第84-96页 |
| 5.1 La掺杂量对Ca_(1-x)La_xB_6薄膜磁学性能的影响 | 第85-88页 |
| 5.2 薄膜厚度对Ca_(1-x)La_xB_6薄膜磁学性能的影响 | 第88-92页 |
| 5.3 溅射气压对CaB_6薄膜磁学性能的影响 | 第92-93页 |
| 5.4 样品类型对CaB_6材料磁学性能的影响 | 第93-94页 |
| 5.5 本章小结 | 第94-96页 |
| 第六章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-106页 |
| 致谢 | 第106-108页 |
| 附录 | 第108-109页 |
| 学位论文评阅及答辩情況表 | 第109页 |
