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硅和氮化硼新结构及性能的理论与实验研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-31页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 材料微观结构的理论研究第13-17页
        1.2.1 理论研究材料微观结构的意义第13-14页
        1.2.2 理论研究材料微观结构的原理和方法第14-15页
        1.2.3 建模方法第15-16页
        1.2.4 理论研究涉及的一些基本概念第16-17页
    1.3 硅结构的研究现状第17-21页
        1.3.1 硅的已知结构第18-20页
        1.3.2 硅结构的最新研究进展第20-21页
    1.4 氮化硼结构的研究现状第21-30页
        1.4.1 氮化硼的已知结构第23-25页
        1.4.2 氮化硼结构的最新研究进展第25-30页
    1.5 本文的研究意义和主要内容第30-31页
第2章 新型硅同素异形体Si_(10)第31-47页
    2.1 引言第31-32页
    2.2 计算方法第32-33页
        2.2.1 结构建模第32页
        2.2.2 模拟计算第32-33页
    2.3 晶体结构第33页
    2.4 稳定性研究第33-36页
    2.5 电子性质第36-37页
    2.6 实验未解硅新相的衍射数据分析第37-44页
    2.7 形成机制的讨论第44-45页
    2.8 本章小结第45-47页
第3章 金属性的硅同素异形体的理论研究第47-58页
    3.1 引言第47-48页
    3.2 计算方法第48-49页
        3.2.1 结构建模第48页
        3.2.2 模拟计算第48-49页
    3.3 晶体结构第49-51页
    3.4 弹性和动力学稳定性研究第51-52页
    3.5 热力学稳定性以及可能的合成路径第52-55页
    3.6 电子性质第55-56页
    3.7 本章小结第56-58页
第4章 三层周期的新型氮化硼结构第58-73页
    4.1 引言第58-59页
    4.2 计算方法第59-60页
        4.2.1 结构建模第59-60页
        4.2.2 模拟计算第60页
    4.3 新型层状氮化硼结构第60-63页
    4.4 稳定性研究第63-67页
    4.5 电子性质第67-69页
    4.6 光吸收性质第69-71页
    4.7 三层周期BN结构的存在形式第71页
    4.8 本章小结第71-73页
第5章 乱层氮化硼高压相变的理论研究第73-86页
    5.1 引言第73-75页
    5.2 计算方法第75-76页
        5.2.1 结构建模第75页
        5.2.2 模拟计算第75-76页
    5.3 层状氮化硼结构的高压相变模拟第76-79页
    5.4 新型三维氮化硼结构第79-81页
    5.5 孪晶结构形成机制的探索第81-82页
    5.6 稳定性研究第82-83页
    5.7 电子性质第83-84页
    5.8 力学性质第84-85页
    5.9 本章小结第85-86页
第6章 高温高压下洋葱氮化硼相转变的实验研究第86-106页
    6.1 引言第86-87页
    6.2 实验以及数据处理方法第87-92页
        6.2.1 非原位高温高压相转变研究方法第87-89页
        6.2.2 原位高温高压相转变研究方法第89-92页
    6.3 洋葱氮化硼结构表征第92-93页
    6.4 非原位高温高压相转变的实验结果第93-96页
    6.5 原位高温高压相转变实验结果第96-103页
    6.6 洋葱氮化硼的高温高压相转变图第103-104页
    6.7 本章小结第104-106页
结论第106-108页
参考文献第108-122页
攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果第122-125页
致谢第125-126页

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