| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 热电材料的发展历史 | 第12-14页 |
| 1.3 Bi_2Te_3基热电材料研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4 热电性能参数 | 第16-21页 |
| 1.4.1 热电优值（ZT） | 第16-18页 |
| 1.4.2 热电转换效率 | 第18-19页 |
| 1.4.3 载流子浓度 | 第19页 |
| 1.4.4 Seebeck系数 | 第19-21页 |
| 1.5 热电性能优化方法 | 第21页 |
| 1.5.1 掺杂 | 第21页 |
| 1.5.2 合金化 | 第21页 |
| 1.5.3 纳米结构 | 第21页 |
| 1.6 课题的研究意义及主要研究内容 | 第21-24页 |
| 1.6.1 本文研究意义 | 第21-22页 |
| 1.6.2 本文研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验方案及表征方法 | 第24-36页 |
| 2.1 实验方法 | 第25-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术 | 第25-27页 |
| 2.1.2 电子束蒸发技术 | 第27-28页 |
| 2.1.3 退火处理 | 第28-29页 |
| 2.2 薄膜形貌结构及性能的表征手段 | 第29-33页 |
| 2.2.1 SEM | 第29-30页 |
| 2.2.2 XRD | 第30页 |
| 2.2.3 XPS | 第30-31页 |
| 2.2.4 霍尔测试 | 第31-32页 |
| 2.2.5 Seebeck系数测试 | 第32-33页 |
| 2.3 能垒高度计算 | 第33-36页 |
| 第3章 磁控溅射制备n型Bi_2Te_3薄膜及镀Sn后的结构性能研究 | 第36-43页 |
| 3.1 磁控溅射制备Bi_2Te_3薄膜的结构及性能研究 | 第36-39页 |
| 3.1.1 SEM结果分析 | 第36-37页 |
| 3.1.2 XRD结果分析 | 第37页 |
| 3.1.3 性能分析 | 第37-39页 |
| 3.2 Bi_2Te_3薄膜镀Sn后结构及性能研究 | 第39-41页 |
| 3.2.1 SEM结果分析 | 第39-40页 |
| 3.2.2 XRD结果分析 | 第40页 |
| 3.2.3 性能分析 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 退火和扩散退火对Bi_2Te_3（573 K）薄膜的性能影响与分析 | 第43-51页 |
| 4.1 SEM结果分析 | 第44-45页 |
| 4.2 XRD结果分析 | 第45-47页 |
| 4.3 性能分析 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 退火和扩散退火对Bi_2Te_3（623 K）薄膜的性能影响与分析 | 第51-60页 |
| 5.1 SEM结果分析 | 第51-52页 |
| 5.2 XRD结果分析 | 第52-53页 |
| 5.3 XPS结果分析 | 第53-54页 |
| 5.4 性能分析 | 第54-57页 |
| 5.5 退火时间对样品性能的影响 | 第57-58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 第6章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 在学期间研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
