| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 半导体光催化剂的发展历史及研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2 半导体光催化过程及基本原理 | 第13-15页 |
| 1.3 提高光催化剂性能的途径 | 第15-18页 |
| 1.3.1 光催化剂纳米化 | 第16页 |
| 1.3.2 离子掺杂 | 第16-17页 |
| 1.3.3 半导体复合 | 第17页 |
| 1.3.4 染料光敏化 | 第17页 |
| 1.3.5 贵金属沉积 | 第17-18页 |
| 1.4 氮化碳研究综述 | 第18-22页 |
| 1.4.1 氮化碳研究背景 | 第18页 |
| 1.4.2 氮化碳的结构 | 第18-19页 |
| 1.4.3 氮化碳的性质 | 第19-20页 |
| 1.4.4 氮化碳的制备 | 第20页 |
| 1.4.5 氮化碳的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.5 MoS_2研究简介 | 第22-23页 |
| 1.6 本文选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 催化材料制备表征及测试方法 | 第25-33页 |
| 2.1 催化材料的制备 | 第25-29页 |
| 2.1.1 实验原料与试剂 | 第25页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第25-26页 |
| 2.1.3 光催化剂 g-C_3N_4的制备 | 第26-27页 |
| 2.1.4 MoS_2的制备 | 第27-28页 |
| 2.1.5 MoS_2-g-C_3N_4复合材料的制备 | 第28-29页 |
| 2.2 催化材料的表征 | 第29-30页 |
| 2.3 光催化活性评价 | 第30-33页 |
| 2.3.1 牺牲试剂的选择 | 第30页 |
| 2.3.2 光催化分解水制氢 | 第30-33页 |
| 第三章 MoS_2-g-C_3N_4复合材料的表征结果与讨论 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 晶相及结构分析 | 第34-38页 |
| 3.2.1 X 射线衍射(XRD)分析 | 第34-35页 |
| 3.2.2 傅立叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第35-36页 |
| 3.2.3 透射电镜(TEM)及元素分布(mapping)分析 | 第36-37页 |
| 3.2.4 EA 元素分析 | 第37-38页 |
| 3.2.5 N_2-物理吸附(BET)分析 | 第38页 |
| 3.3 X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第38-41页 |
| 3.4 紫外可见吸收性能(UV-Vis)分析 | 第41-43页 |
| 3.5 光致发光光谱(PL)分析 | 第43-45页 |
| 第四章 MoS_2-g-C_3N_4复合材料的光催化性能研究 | 第45-55页 |
| 4.1 MoS_2-g-C_3N_4的光催化水解制氢性能 | 第45-46页 |
| 4.2 制备条件对 MoS_2-g-C_3N_4光催化活性的影响 | 第46-51页 |
| 4.2.1 MoS_2对复合材料光催化活性的影响 | 第46-49页 |
| 4.2.2 焙烧温度对复合材料光催化活性的影响 | 第49-51页 |
| 4.3 MoS_2-g-C_3N_4复合材料稳定性分析 | 第51-52页 |
| 4.4 MoS_2-g-C_3N_4复合材料的光催化水解制氢机理讨论 | 第52-55页 |
| 第五章 论文总结 | 第55-57页 |
| 5.1 总结 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-67页 |
| 硕士期间发表的学术论文和参与的科研项目 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
