| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-36页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 DDQ在反应中的应用 | 第11-34页 |
| 1.2.1 醇氧化 | 第11-13页 |
| 1.2.2 芳构化 | 第13-19页 |
| 1.2.3 氧化偶联 | 第19-26页 |
| 1.2.4 氧化脱保护 | 第26-30页 |
| 1.2.5 其他氧化反应 | 第30-34页 |
| 1.3 本论文的研究意义 | 第34-36页 |
| 第二章 DDQ/TBN/O_2体系在醚制醛反应中的应用 | 第36-50页 |
| 2.1 引言 | 第36-37页 |
| 2.2 实验部分 | 第37-41页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第37页 |
| 2.2.2 仪器及检测条件 | 第37-38页 |
| 2.2.3 实验设计和步骤 | 第38-41页 |
| 2.2.3.1 各类苄基醚的制备 | 第38-40页 |
| 2.2.3.2 苄基醚在DQQ/TBN/O_2体系中氧化反应的典型步骤 | 第40-41页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第41-48页 |
| 2.3.1 DQQ/TBN/O_2体系用于苄甲醚的氧化 | 第41-47页 |
| 2.3.1.1 反应溶剂的筛选 | 第41-45页 |
| 2.3.1.1.1 反应温度100℃下的溶剂筛选 | 第41-44页 |
| 2.3.1.1.2 反应温度140℃下的溶剂筛选 | 第44-45页 |
| 2.3.1.2 反应温度的选择 | 第45-46页 |
| 2.3.1.3 催化剂用量和反应时间的影响 | 第46-47页 |
| 2.3.2 DQQ/TBN/O_2体系用于不同苄甲醚底物的氧化 | 第47-48页 |
| 2.4 小结 | 第48-50页 |
| 第三章 DDQ/TBN/O_2体系在醇羟基脱苄基保护中的应用 | 第50-67页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-61页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第51页 |
| 3.2.2 仪器及检测条件 | 第51-52页 |
| 3.2.3 实验设计和步骤 | 第52-61页 |
| 3.2.3.1 底物的合成及结构表征 | 第52-59页 |
| 3.2.3.1.1 对甲氧苄基(PMB)保护的一元醇 | 第52-56页 |
| 3.2.3.1.2 双保护基保护的1,6-己二醇的合成 | 第56-59页 |
| 3.2.3.2 底物在DQQ/TBN/O_2体系中脱苄基保护的典型反应步骤 | 第59-60页 |
| 3.2.3.3 部分脱苄基保护后产物的结构表征 | 第60-61页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第61-66页 |
| 3.3.1 对甲氧基苄甲醚在DQQ/TBN/O_2体系中的氧化反应 | 第61-63页 |
| 3.3.1.1 反应温度的选择 | 第62-63页 |
| 3.3.1.2 DQQ和TBN用量的确定 | 第63页 |
| 3.3.2 DQQ/TBN/O_2体系用于不同底物的脱保护 | 第63-66页 |
| 3.4 小结 | 第66-67页 |
| 第四章 DDQ/TBN/O_2体系在常压下醇羟基脱苄基保护中的应用 | 第67-73页 |
| 4.1 引言 | 第67页 |
| 4.2 实验部分 | 第67-68页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第67-68页 |
| 4.2.2 仪器及检测条件 | 第68页 |
| 4.2.3 实验设计 | 第68页 |
| 4.2.4 常压DQQ/TBN/O_2脱保护体系的典型反应步骤 | 第68页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第68-72页 |
| 4.3.1 对甲氧基苄甲醚在DQQ/TBN/O_2常压体系中的氧化反应 | 第68-70页 |
| 4.3.1.1 DQQ/TBN用量的选择 | 第69-70页 |
| 4.3.1.2 反应温度的选择 | 第70页 |
| 4.3.2 DQQ/TBN/O_2常压体系用于不同底物的脱保护 | 第70-72页 |
| 4.4 小结 | 第72-73页 |
| 第五章 总结与展望 | 第73-74页 |
| 5.1 总结 | 第73页 |
| 5.2 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 附录 | 第84-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第132页 |
