微孔—介孔ZSM-5分子筛的制备及其C2H2-SCR活性
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述及论文设想 | 第10-31页 |
| ·NO_x的危害 | 第10-11页 |
| ·NO_x的消除方法及研究现状 | 第11-14页 |
| ·NO_x的直接催化分解 | 第11-12页 |
| ·三效催化剂法(TWC) | 第12-13页 |
| ·储存-还原法(NSR) | 第13页 |
| ·NO_x的选择催化还原(SCR) | 第13-14页 |
| ·用于HC-SCR的还原剂 | 第14-19页 |
| ·烷烃类还原剂 | 第14-16页 |
| ·烯烃类还原剂 | 第16-17页 |
| ·含氧低碳氢化合物类还原剂 | 第17-18页 |
| ·乙炔 | 第18-19页 |
| ·HC-SCR消除NO_x反应的影响因素 | 第19-21页 |
| ·H_2O和SO_2的影响 | 第19-20页 |
| ·催化剂上扩散的影响 | 第20-21页 |
| ·用于HC-SCR的ZSM-5分子筛催化剂 | 第21-30页 |
| ·ZSM-5分子筛发展历史及其特点 | 第21-22页 |
| ·ZSM-5分子筛引入介孔改性 | 第22-30页 |
| ·选题依据及论文设想 | 第30-31页 |
| 2 实验部分 | 第31-34页 |
| ·原料试剂及仪器设备 | 第31页 |
| ·原料试剂 | 第31页 |
| ·仪器设备 | 第31页 |
| ·样品的制备 | 第31-32页 |
| ·样品的表征 | 第32-33页 |
| ·X射线衍射光谱表征(XRD) | 第32页 |
| ·扫面电镜表征(SEM) | 第32页 |
| ·N_2吸附脱附表征 | 第32页 |
| ·X射线荧光表征(XRF) | 第32页 |
| ·X射线电子能谱(XPS) | 第32页 |
| ·傅里叶变换红外光谱表征(FTIR) | 第32-33页 |
| ·活性测试 | 第33-34页 |
| 3 结果与讨论 | 第34-54页 |
| ·ZSM-5分子筛骨架结构的变化 | 第34-35页 |
| ·ZSM-5分子筛外表面形态的变化 | 第35-36页 |
| ·ZSM-5分子筛孔结构的变化 | 第36-38页 |
| ·ZSM-5分子筛酸性质的变化 | 第38-41页 |
| ·ZSM-5分子筛硅铝比的变化 | 第38-40页 |
| ·ZSM-5分子筛酸量的变化 | 第40-41页 |
| ·活性测试结果 | 第41-54页 |
| ·碱处理对分子筛催化性能的影响 | 第44-46页 |
| ·水热处理对脱硅分子筛催化性能的影响 | 第46-50页 |
| ·二氧化钛包膜对碱处理ZSM-5分子筛的影响 | 第50-54页 |
| ·ZSM-5分子筛骨架结构的变化 | 第50-51页 |
| ·ZSM-5分子筛外表面形态的变化 | 第51-52页 |
| ·包膜并碱处理后ZSM-5分子筛催化性能的变化 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
