摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第8-18页 |
1.1 飞秒激光加工微通道的研究现状 | 第10-11页 |
1.2 激光技术加工石英玻璃的应用 | 第11-16页 |
1.2.1 激光直接刻蚀法 | 第12-13页 |
1.2.2 激光诱导等离子体刻蚀法 | 第13-14页 |
1.2.3 激光背部湿刻法 | 第14-16页 |
1.3 课题研究的目的和意义 | 第16页 |
1.4 课题研究的主要内容 | 第16-18页 |
第2章 实验设备与方案 | 第18-25页 |
2.1 实验设备 | 第18-22页 |
2.1.1 飞秒激光器 | 第18-19页 |
2.1.2 三维运动平台 | 第19-20页 |
2.1.3 聚焦系统 | 第20页 |
2.1.4 软件控制系统 | 第20-22页 |
2.2 检测仪器 | 第22页 |
2.3 实验材料 | 第22-24页 |
2.3.1 石英玻璃 | 第22-23页 |
2.3.2 碳化硅 | 第23-24页 |
2.4 实验方案 | 第24页 |
2.5 本章小结 | 第24-25页 |
第3章 飞秒激光刻蚀石英玻璃的实验研究 | 第25-37页 |
3.1 实验平台结构与实验方法 | 第25-26页 |
3.2 实验参数对石英玻璃刻蚀质量的影响规律 | 第26-32页 |
3.2.1 激光功率 | 第26-27页 |
3.2.2 刻蚀速度 | 第27-28页 |
3.2.3 显微物镜聚焦加工 | 第28-30页 |
3.2.4 透镜聚焦方式加工 | 第30-31页 |
3.2.5 调整波形 | 第31-32页 |
3.3 实验结果分析 | 第32-35页 |
3.3.1 孔底部和顶部形貌分析 | 第32-34页 |
3.3.2 孔侧面形貌分析 | 第34-35页 |
3.4 本章小结 | 第35-37页 |
第4章 飞秒激光烧蚀碳化硅的实验研究 | 第37-45页 |
4.1 实验平台结构与实验方法 | 第37-38页 |
4.2 飞秒激光对SiC的烧蚀实验研究 | 第38-40页 |
4.2.1 激光焦点相对材料不同位置对SiC的烧蚀影响 | 第38-39页 |
4.2.2 激光功率对SiC的烧蚀影响 | 第39-40页 |
4.3 SiC微结构的形貌分析 | 第40-44页 |
4.3.1 20x显微物镜聚焦加工 | 第41页 |
4.3.2 50x显微物镜聚焦加工 | 第41-42页 |
4.3.3 透镜聚焦方式加工 | 第42-44页 |
4.4 本章小结 | 第44-45页 |
第5章 总结和展望 | 第45-47页 |
5.1 总结 | 第45-46页 |
5.2 展望 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-50页 |
致谢 | 第50页 |