| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 序言 | 第9-25页 |
| ·场电子发射基本理论及应用 | 第9-15页 |
| ·场电子发射基本理论 | 第9-14页 |
| ·场电子发射的应用 | 第14-15页 |
| ·冷阴极材料及其场电子发射性能的改进 | 第15-18页 |
| ·冷阴极材料 | 第15-17页 |
| ·冷阴极材料场电子发射性能的改进 | 第17-18页 |
| ·TiO_2 的基本性质及其场电子发射研究现状 | 第18-20页 |
| ·本文的选题及研究内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 实验方法及分析测试 | 第25-30页 |
| ·样品制备仪器及方法 | 第25-27页 |
| ·电化学抛光法 | 第25-26页 |
| ·化学抛光法 | 第26页 |
| ·阳极氧化法 | 第26页 |
| ·热处理法 | 第26-27页 |
| ·测试仪器及方法 | 第27-29页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第27-28页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第28页 |
| ·电流与电压特性测试（I-V） | 第28页 |
| ·场电子发射性能测试（FE） | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 碳掺杂TiO_2纳米管有序阵列膜的场电子发射特性研究 | 第30-40页 |
| ·碳掺杂TiO_2 纳米管有序阵列膜的制备及表征 | 第30-34页 |
| ·碳掺杂TiO_2 纳米管有序阵列膜的制备 | 第30-31页 |
| ·碳掺杂TiO_2 纳米管有序阵列膜的表征 | 第31-34页 |
| ·碳掺杂TiO_2 纳米管有序阵列膜的场电子发射特性研究 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第四章半金属TiO_2纳米管有序阵列膜的生长及场电子发射特性研究 | 第40-49页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的制备及表征 | 第41-44页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的制备 | 第41页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的形貌结构 | 第41-42页 |
| ·半金属 TiO_2 纳米管有序阵列膜的物相分析 | 第42-43页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的X 射线光电子能谱分析 | 第43页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的电流与电压特性分析 | 第43-44页 |
| ·半金属TiO_2 纳米管有序阵列膜的场电子发射特性研究 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 总结与展望 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录：攻读硕士学位期间提交的论文及专利申请 | 第52页 |
