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位错在纳米线生长中的作用

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第9-21页
    1.1 课题背景第9-10页
    1.2 纳米线的主要合成方法和生长机制第10-15页
    1.3 螺位错生长机制及研究现状第15-20页
    1.4 本课题研究主要意义及内容第20-21页
第2章 实验仪器及方法第21-25页
    2.1 实验仪器第21-22页
    2.2 实验方法第22-24页
        2.2.1 位错分析方法第22-23页
        2.2.2 位错分析辅助方法第23-24页
    2.3 本章小结第24-25页
第3章 氧化铜CuO纳米线的生长机制研究第25-32页
    3.1 引言第25页
    3.2 CuO纳米线的实验方法第25-26页
    3.3 XRD物相表征第26-27页
    3.4 SEM形貌表征第27-30页
    3.5 氧化铜CuO纳米线的生长机制第30-31页
    3.6 本章小结第31-32页
第4章 氧化铜CuO纳米线中的位错及生长机制研究第32-42页
    4.1 引言第32页
    4.2 CuO纳米线的孪晶结构分析第32-37页
    4.3 CuO纳米线的位错结构分析第37-38页
    4.4 氧化铜纳米线晶体结构分析及生长机制研究第38-40页
    4.5 本章小结第40-42页
第5章 硫化锌ZnS纳米线中位错在生长中作用第42-52页
    5.1 引言第42页
    5.2 ZnS纳米线的实验方法第42页
    5.3 ZnS纳米线的TEM表征及HRTEM表征第42-48页
    5.4 ZnS纳米线中位错在生长中作用第48-50页
    5.5 本章小结第50-52页
结论第52-54页
参考文献第54-62页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第62-63页
致谢第63页

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