| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第17-47页 |
| 1.1 有机硅化学 | 第17页 |
| 1.2 异氰酸酯硅烷 | 第17-22页 |
| 1.2.1 异氰酸酯化学 | 第17-18页 |
| 1.2.2 异氰酸酯合成方法 | 第18-21页 |
| 1.2.2.1 光气法 | 第18-19页 |
| 1.2.2.2 双光气法 | 第19页 |
| 1.2.2.3 固体光气法 | 第19页 |
| 1.2.2.4 叠氮化物Curtius重排法 | 第19-20页 |
| 1.2.2.5 氨基甲酸酯高温分解法 | 第20页 |
| 1.2.2.6 伯胺与CDI反应法 | 第20页 |
| 1.2.2.7 酯交换法 | 第20-21页 |
| 1.2.3 异氰酸酯硅烷的合成 | 第21-22页 |
| 1.3 有机硅烷自组装 | 第22-28页 |
| 1.3.1 自组装概述 | 第22-23页 |
| 1.3.1.1 自组装原理 | 第22页 |
| 1.3.1.2 自组装方法 | 第22-23页 |
| 1.3.2 自组装单分子膜（SAMs） | 第23-28页 |
| 1.3.2.1 自组装单分子膜及其分类 | 第23-24页 |
| 1.3.2.2 有机硅烷类SAMs | 第24-25页 |
| 1.3.2.3 含氟硅烷SAMs | 第25-26页 |
| 1.3.2.4 自组装单分子膜的应用 | 第26页 |
| 1.3.2.5 自组装单分子膜的表面性能 | 第26-28页 |
| 1.4 有机硅卤胺抗菌 | 第28-33页 |
| 1.4.1 抗菌概述 | 第28-30页 |
| 1.4.1.1 纺织品抗菌及抗菌剂 | 第28-29页 |
| 1.4.1.2 抗菌剂分类 | 第29-30页 |
| 1.4.1.3 理想纺织品抗菌剂 | 第30页 |
| 1.4.2 有机硅N-卤胺抗菌剂 | 第30-33页 |
| 1.4.2.1 卤胺化合物研究背景 | 第30-31页 |
| 1.4.2.2 卤胺化合物及其抗菌机理 | 第31页 |
| 1.4.2.3 有机硅卤胺抗菌剂制备 | 第31-32页 |
| 1.4.2.4 卤胺抗菌织物处理方法 | 第32页 |
| 1.4.2.5 卤胺抗菌剂的应用 | 第32-33页 |
| 1.5 论文立题依据与意义 | 第33-34页 |
| 1.6 本论文的研究工作 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-47页 |
| 第二章 四异氰氧基乙基环四硅氧烷的合成与表征 | 第47-55页 |
| 2.1 引言 | 第47页 |
| 2.2 实验材料、试剂和仪器 | 第47-49页 |
| 2.2.1 实验材料与试剂 | 第47-48页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第48页 |
| 2.2.3 测试与表征方法 | 第48-49页 |
| 2.2.3.1 红外光谱（FTIR） | 第48页 |
| 2.2.3.2 气相色谱 | 第48-49页 |
| 2.2.3.3 核磁共振谱（NMR） | 第49页 |
| 2.2.3.4 质谱（MS） | 第49页 |
| 2.3 四异氰氧基乙基环四硅氧烷的合成 | 第49-51页 |
| 2.3.1 合成路线 | 第49页 |
| 2.3.2 合成步骤 | 第49-50页 |
| 2.3.3 合成工艺优化 | 第50-51页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第51-54页 |
| 2.4.1 产物结构表征数据 | 第51-52页 |
| 2.4.2 产物谱图分析 | 第52-53页 |
| 2.4.2.1 红外光谱 | 第52-53页 |
| 2.4.2.2 核磁谱 | 第53页 |
| 2.4.2.3 质谱 | 第53页 |
| 2.4.3 四异氰氧基乙基环四硅氧烷的应用 | 第53-54页 |
| 2.5 本章小结 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第三章 3-(1H,1H,2H,2H-全氟烷氧酰胺丙基)-三乙氧基硅烷的合成及其硅片自组装 | 第55-70页 |
| 3.1 引言 | 第55页 |
| 3.2 实验材料、试剂与仪器 | 第55-57页 |
| 3.2.1 实验材料与试剂 | 第55-56页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第56页 |
| 3.2.3 测试与表征方法 | 第56-57页 |
| 3.2.3.1 红外光谱（FTIR） | 第56页 |
| 3.2.3.2 核磁共振（NMR） | 第56页 |
| 3.2.3.3 质谱（MS） | 第56页 |
| 3.2.3.4 表面接触角（CA） | 第56-57页 |
| 3.2.3.5 X-射线光电子能谱仪（XPS） | 第57页 |
| 3.2.3.6 原子力显微镜（AFM） | 第57页 |
| 3.2.3.7 粘附力 | 第57页 |
| 3.3 3-(1H,1H,2H,2H-全氟烷氧酰胺丙基)-三乙氧基硅烷的合成 | 第57-58页 |
| 3.3.1 合成路线 | 第57-58页 |
| 3.3.2 合成步骤 | 第58页 |
| 3.4 含氟氨酯基硅氧烷单分子膜的制备 | 第58-59页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第59-68页 |
| 3.5.1 产物结构表征数据 | 第59-60页 |
| 3.5.2 产物谱图分析 | 第60-61页 |
| 3.5.2.1 红外光谱 | 第60-61页 |
| 3.5.2.2 核磁谱 | 第61页 |
| 3.5.2.3 质谱 | 第61页 |
| 3.5.3 单分子膜的表面性能表征与分析 | 第61-68页 |
| 3.5.3.1 红外光谱 | 第61-62页 |
| 3.5.3.2 接触角与表面自由能 | 第62-64页 |
| 3.5.3.3 粘附力 | 第64-65页 |
| 3.5.3.4 X-射线光电子能谱 | 第65-67页 |
| 3.5.3.5 原子力 | 第67-68页 |
| 3.6 本章小结 | 第68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第四章 3-(1H,1H,2H,2H-全氟烷氧羰基)-丙酰胺丙基-三乙氧基硅烷的合成及自组装 | 第70-85页 |
| 4.1 引言 | 第70页 |
| 4.2 实验材料、试剂与仪器 | 第70-71页 |
| 4.2.1 实验材料与试剂 | 第70-71页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第71页 |
| 4.2.3 测试与表征方法 | 第71页 |
| 4.3 3-(1H,1H,2H,2H-全氟烷氧羰基)-丙酰胺丙基-三乙氧基硅烷的合成 | 第71-72页 |
| 4.3.1 合成路线 | 第71-72页 |
| 4.3.2 合成步骤 | 第72页 |
| 4.4 含氟酯基硅氧烷单分子膜的制备 | 第72-73页 |
| 4.5 结果与讨论 | 第73-82页 |
| 4.5.1 产物结构表征数据 | 第73-74页 |
| 4.5.2 产物谱图分析 | 第74-76页 |
| 4.5.2.1 红外光谱 | 第74-75页 |
| 4.5.2.2 核磁谱 | 第75页 |
| 4.5.2.3 质谱 | 第75-76页 |
| 4.5.3 单分子膜的表面性能表征与分析 | 第76-82页 |
| 4.5.3.1 红外光谱 | 第76页 |
| 4.5.3.2 接触角与表面自由能 | 第76-77页 |
| 4.5.3.3 粘附力 | 第77-78页 |
| 4.5.3.4 X-射线光电子能谱 | 第78-81页 |
| 4.5.3.5 能量色散X-射线能谱 | 第81页 |
| 4.5.3.6 原子力 | 第81-82页 |
| 4.6 本章小结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-85页 |
| 第五章N-卤胺硅烷合成及其抗菌性和耐久稳定性 | 第85-102页 |
| 5.1 引言 | 第85页 |
| 5.2 实验材料、试剂与仪器 | 第85-87页 |
| 5.2.1 实验材料与试剂 | 第85-86页 |
| 5.2.2 实验仪器 | 第86页 |
| 5.2.3 测试与表征方法 | 第86-87页 |
| 5.2.3.1 红外光谱（FTIR） | 第86-87页 |
| 5.2.3.2 核磁共振（NMR） | 第87页 |
| 5.2.3.3 质谱（MS） | 第87页 |
| 5.2.3.4 扫描电镜（SEM） | 第87页 |
| 5.2.3.5 X-射线光电子能谱仪（XPS） | 第87页 |
| 5.2.3.6 热重分析（TGA） | 第87页 |
| 5.2.3.7 白度测试 | 第87页 |
| 5.2.3.8 断裂强力测试 | 第87页 |
| 5.3 双酰胺基桥基有机硅烷的合成 | 第87-89页 |
| 5.3.1 合成路线 | 第87-88页 |
| 5.3.2 合成步骤 | 第88-89页 |
| 5.4 抗菌棉织物的制备 | 第89-91页 |
| 5.4.1 双酰胺基桥基硅烷膜的制备 | 第89页 |
| 5.4.2 氯化及氯含量滴定 | 第89-90页 |
| 5.4.3 抗菌测试 | 第90页 |
| 5.4.4 耐洗性测试 | 第90页 |
| 5.4.5 耐紫外性测试 | 第90页 |
| 5.4.6 储存稳定性测试 | 第90-91页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第91-99页 |
| 5.5.1 产物结构表征数据 | 第91页 |
| 5.5.2 产物谱图分析 | 第91-92页 |
| 5.5.2.1 红外光谱 | 第91-92页 |
| 5.5.2.2 核磁谱 | 第92页 |
| 5.5.2.3 质谱 | 第92页 |
| 5.5.3 抗菌棉织物的结构表征 | 第92-96页 |
| 5.5.3.1 红外光谱 | 第92-93页 |
| 5.5.3.2 扫描电镜 | 第93-94页 |
| 5.5.3.3 热重分析 | 第94页 |
| 5.5.3.4 白度与断裂强力 | 第94-95页 |
| 5.5.3.5 X-射线光电子能谱 | 第95-96页 |
| 5.5.4 抗菌测试结果 | 第96-97页 |
| 5.5.5 水洗稳定性 | 第97-98页 |
| 5.5.6 紫外稳定性 | 第98页 |
| 5.5.7 室温储存稳定性 | 第98-99页 |
| 5.6 本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 第六章 硅烷多卤胺化及其在棉织物上的抗菌应用 | 第102-117页 |
| 6.1 引言 | 第102页 |
| 6.2 实验材料、试剂与仪器 | 第102-103页 |
| 6.2.1 实验材料与试剂 | 第102-103页 |
| 6.2.2 实验仪器 | 第103页 |
| 6.2.3 测试与表征方法 | 第103页 |
| 6.3 双酰胺脲基桥基有机硅烷的合成 | 第103-104页 |
| 6.3.1 合成路线 | 第103-104页 |
| 6.3.2 合成方法 | 第104页 |
| 6.4 抗菌棉织物的制备 | 第104-106页 |
| 6.4.1 双酰胺基脲基桥基硅烷膜的制备 | 第104-105页 |
| 6.4.2 氯化及氯含量滴定 | 第105页 |
| 6.4.3 抗菌测试 | 第105页 |
| 6.4.4 氧化态氯的缓释测试 | 第105-106页 |
| 6.4.5 耐洗性测试 | 第106页 |
| 6.4.6 耐紫外性测试 | 第106页 |
| 6.4.7 储存稳定性测试 | 第106页 |
| 6.5 结果与讨论 | 第106-114页 |
| 6.5.1 产物结构表征数据 | 第106-107页 |
| 6.5.2 产物谱图分析 | 第107-108页 |
| 6.5.2.1 红外光谱 | 第107页 |
| 6.5.2.2 核磁谱 | 第107页 |
| 6.5.2.3 质谱 | 第107-108页 |
| 6.5.3 抗菌棉织物的结构表征 | 第108-111页 |
| 6.5.3.1 红外光谱 | 第108-109页 |
| 6.5.3.2 热重分析 | 第109页 |
| 6.5.3.3 扫描电镜 | 第109-110页 |
| 6.5.3.4 X-射线光电子能谱 | 第110-111页 |
| 6.5.4 抗菌测试结果 | 第111-112页 |
| 6.5.5 氧化态氯的缓释 | 第112页 |
| 6.5.6 水洗稳定性 | 第112-114页 |
| 6.5.7 紫外稳定性 | 第114页 |
| 6.5.8 室温储存稳定性 | 第114页 |
| 6.6 本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-117页 |
| 第七章 结论与展望 | 第117-120页 |
| 7.1 结论 | 第117-118页 |
| 7.2 展望 | 第118-120页 |
| 附图 | 第120-129页 |
| 硕士期间发表论文及申请专利 | 第129-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
