| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-16页 |
| 1.2.1 纳米线制备研究现状 | 第9-11页 |
| 1.2.2 纳米线性能研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.3 纳米线电极传感器制备研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 AFM纳米机械刻划聚合物薄膜的理论模型建立与实验研究 | 第17-35页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 实验条件及加工过程 | 第17-19页 |
| 2.2.1 实验样品制备 | 第17-18页 |
| 2.2.2 刻划实验设备 | 第18页 |
| 2.2.3 AFM纳米机械刻划实验步骤 | 第18-19页 |
| 2.3 纳米机械刻划聚合物薄膜探针作用力理论模型建立 | 第19-27页 |
| 2.3.1 探针几何模型建立 | 第19-20页 |
| 2.3.2 纳米刻划过程中探针受力模型建立 | 第20-27页 |
| 2.4 纳米机械刻划实验研究 | 第27-34页 |
| 2.4.1 探针竖直载荷和水平摩擦力计算 | 第27-28页 |
| 2.4.2 不同半径针尖刻划PMMA薄膜实验研究 | 第28-33页 |
| 2.4.3 刻划验证实验 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 Au纳米线电极的制备实验研究 | 第35-51页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 电子束蒸发镀膜工艺研究 | 第35-42页 |
| 3.2.1 镀膜方式选择与实验原理 | 第36-37页 |
| 3.2.2 电子束束流对镀膜厚度影响 | 第37-38页 |
| 3.2.3 蒸镀时间对膜厚影响 | 第38-39页 |
| 3.2.4 镀件与蒸发源之间的距离对膜厚影响 | 第39-40页 |
| 3.2.5 镀膜顺序和各镀膜工艺参数对制备样品lift-off的影响 | 第40-42页 |
| 3.3 纳米线电极制备实验研究 | 第42-50页 |
| 3.3.1 纳米线的制备流程与实验研究 | 第42-44页 |
| 3.3.2 外围电路微电极制备流程与实验研究 | 第44-48页 |
| 3.3.3 纳米线与外围电路搭接实验研究 | 第48-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 Au纳米线电极电学性能测量与应用 | 第51-66页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 Au纳米线电极电学性能的测量分析 | 第51-60页 |
| 4.2.1 电学性能测量设备与方法 | 第51-52页 |
| 4.2.2 金属外围电路和纳米线电学性能测量分析 | 第52-60页 |
| 4.3 Au纳米线电极电学性能影响因素实验研究 | 第60-65页 |
| 4.3.1 纳米线上纳结构对电学性能的影响 | 第60-63页 |
| 4.3.2 吸附硫醇对纳米线电学性能的影响 | 第63-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
