| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 镁及镁合金简介 | 第10-11页 |
| 1.2 镁及镁合金的表面处理 | 第11-14页 |
| 1.2.1 镁及镁合金表面处理的原因 | 第11页 |
| 1.2.2 镁及镁合金表面处理技术 | 第11-14页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第14-16页 |
| 1.3.1 微弧氧化的定义和特点 | 第14-15页 |
| 1.3.2 微弧氧化基本原理 | 第15页 |
| 1.3.3 微弧氧化膜的特点及膜层腐蚀机理 | 第15-16页 |
| 1.4 影响微弧氧化膜微观结构及性能的因素 | 第16-18页 |
| 1.4.1 工艺参数中的电参数 | 第16-17页 |
| 1.4.2 工艺参数中的非电参数 | 第17-18页 |
| 1.5 课题研究的目的及内容 | 第18-20页 |
| 1.5.1 研究的目的 | 第18页 |
| 1.5.2 研究的内容 | 第18-20页 |
| 第2章 研究方法 | 第20-26页 |
| 2.1 实验材料、设备及试样的制备 | 第20-23页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第20-22页 |
| 2.1.3 试样的制备 | 第22-23页 |
| 2.2 实验的技术路线 | 第23-24页 |
| 2.3 微弧氧化膜层的性能检测和微观表征 | 第24-26页 |
| 2.3.1 微弧氧化膜厚度的检测 | 第24页 |
| 2.3.2 点滴实验 | 第24页 |
| 2.3.3 电化学实验 | 第24-25页 |
| 2.3.4 膜层的表面和截面形貌观察 | 第25-26页 |
| 第三章 电解液组成及电压对微弧氧化膜层的影响 | 第26-51页 |
| 3.1 实验方案的设计 | 第26-28页 |
| 3.2 针对膜层厚度的正交试验结果分析 | 第28-31页 |
| 3.2.1 微弧氧化膜层厚度的极差分析 | 第28-30页 |
| 3.2.2 微弧氧化膜层厚度的方差分析 | 第30-31页 |
| 3.3 针对膜层点滴实验耐蚀性的正交试验结果分析 | 第31-34页 |
| 3.3.1 微弧氧化膜层点滴实验耐蚀性的极差分析 | 第31-33页 |
| 3.3.2 微弧氧化膜层点滴实验结果的方差分析 | 第33-34页 |
| 3.4 针对膜层腐蚀电流密度的正交试验结果分析 | 第34-37页 |
| 3.4.1 微弧氧化膜层腐蚀电流密度的极差分析 | 第34-36页 |
| 3.4.2 微弧氧化膜层腐蚀电流密度的方差分析 | 第36-37页 |
| 3.5 膜层性能的综合评定分析 | 第37-45页 |
| 3.5.1 微弧氧化膜膜厚与点滴实验的综合平衡分析 | 第37-39页 |
| 3.5.2 微弧氧化膜厚与腐蚀电流密度的综合平衡分析 | 第39-42页 |
| 3.5.3 膜层膜厚、点滴实验耐蚀性以及腐蚀电流密度的综合平衡分析 | 第42-45页 |
| 3.6 微弧氧化膜层的微观表征及分析 | 第45-49页 |
| 3.6.1 微弧氧化膜层的表面形貌观察及分析 | 第45-47页 |
| 3.6.2 微弧氧化膜层的截面形貌观察及分析 | 第47-49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 本文结论 | 第51-52页 |
| 本文创新点 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第58页 |
