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密度泛函理论对铋原子修饰Cu2O(100)表面光催化活性的研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第10-20页
    1.1 光催化技术的基本原理第10-13页
    1.2 光催化的历史第13-14页
    1.3 影响光催化性能的因素及研究进展第14-15页
        1.3.1 电子结构第14页
        1.3.2 晶体结构第14-15页
        1.3.3 表面界面第15页
    1.4 光催化研究进展第15-18页
        1.4.1 离子掺杂第16页
        1.4.2 金属吸附第16-17页
        1.4.3 半导体复合第17页
        1.4.4 理论计算与模拟第17-18页
    1.5 本文的研究工作第18-20页
第2章 理论基础及计算方法第20-30页
    2.1 早期的近似理论第20-23页
        2.1.1 绝热近似第20-21页
        2.1.2 Hartree-Fock近似第21-23页
    2.2 密度泛函理论第23-25页
        2.2.1 Thomas-Fermi模型第23-24页
        2.2.2 Hohenberg-Kokn定理第24-25页
        2.2.3 Kohn-Sham方程第25页
    2.3 交换关联泛函第25-27页
        2.3.1 局域密度近似第25-26页
        2.3.2 广义梯度近似第26页
        2.3.3 杂化密度近似第26-27页
    2.4 数值计算第27-28页
        2.4.1 平面波基组第27-28页
        2.4.2 赝势平面波模型第28页
    2.5 计算程序简介第28-30页
第3章 金属铋吸附氧化亚铜(100)面钝化表面态增强光催化性能第30-42页
    3.1 引言第30-31页
    3.2 计算细节第31-32页
    3.3 结果与讨论第32-39页
        3.3.1 表面吸附能第33-34页
        3.3.2 电子结构第34-37页
        3.3.3 带边位置第37-38页
        3.3.4 光学性质第38-39页
    3.4 小结第39-42页
第4章 总结与展望第42-44页
    4.1 总结第42页
    4.2 展望第42-44页
参考文献第44-50页
致谢第50-51页
硕士研究生期间科研情况第51页

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