摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 光催化技术的基本原理 | 第10-13页 |
1.2 光催化的历史 | 第13-14页 |
1.3 影响光催化性能的因素及研究进展 | 第14-15页 |
1.3.1 电子结构 | 第14页 |
1.3.2 晶体结构 | 第14-15页 |
1.3.3 表面界面 | 第15页 |
1.4 光催化研究进展 | 第15-18页 |
1.4.1 离子掺杂 | 第16页 |
1.4.2 金属吸附 | 第16-17页 |
1.4.3 半导体复合 | 第17页 |
1.4.4 理论计算与模拟 | 第17-18页 |
1.5 本文的研究工作 | 第18-20页 |
第2章 理论基础及计算方法 | 第20-30页 |
2.1 早期的近似理论 | 第20-23页 |
2.1.1 绝热近似 | 第20-21页 |
2.1.2 Hartree-Fock近似 | 第21-23页 |
2.2 密度泛函理论 | 第23-25页 |
2.2.1 Thomas-Fermi模型 | 第23-24页 |
2.2.2 Hohenberg-Kokn定理 | 第24-25页 |
2.2.3 Kohn-Sham方程 | 第25页 |
2.3 交换关联泛函 | 第25-27页 |
2.3.1 局域密度近似 | 第25-26页 |
2.3.2 广义梯度近似 | 第26页 |
2.3.3 杂化密度近似 | 第26-27页 |
2.4 数值计算 | 第27-28页 |
2.4.1 平面波基组 | 第27-28页 |
2.4.2 赝势平面波模型 | 第28页 |
2.5 计算程序简介 | 第28-30页 |
第3章 金属铋吸附氧化亚铜(100)面钝化表面态增强光催化性能 | 第30-42页 |
3.1 引言 | 第30-31页 |
3.2 计算细节 | 第31-32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-39页 |
3.3.1 表面吸附能 | 第33-34页 |
3.3.2 电子结构 | 第34-37页 |
3.3.3 带边位置 | 第37-38页 |
3.3.4 光学性质 | 第38-39页 |
3.4 小结 | 第39-42页 |
第4章 总结与展望 | 第42-44页 |
4.1 总结 | 第42页 |
4.2 展望 | 第42-44页 |
参考文献 | 第44-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
硕士研究生期间科研情况 | 第51页 |