| Acknowledgements | 第3-4页 |
| Dedication | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 摘要 | 第7-11页 |
| Chapter 1 Introduction | 第11-41页 |
| 1.1. Magnetism (over view) | 第11-12页 |
| 1.2. Origins of Magnetic Moment | 第12-13页 |
| 1.3. Types of Magnetism | 第13-16页 |
| 1.3.1. Diamagnetism | 第13-14页 |
| 1.3.2. Paramagnetism | 第14-15页 |
| 1.3.3. Ferromagnetism | 第15页 |
| 1.3.4. Antiferromagnetism | 第15-16页 |
| 1.4. Magnetic Domains | 第16-19页 |
| 1.5. Magnetic Anisotropy | 第19-25页 |
| 1.5.1. Magnetocrystalline Anisotropy | 第20-22页 |
| 1.5.2. Shape Anisotropy | 第22-23页 |
| 1.5.3. Surface/interface anisotropy | 第23-24页 |
| 1.5.4. Magneto-elastic anisotropy | 第24-25页 |
| 1.6. Measurement of Magnetic An isotropy | 第25-32页 |
| 1.6.1. Torque Curves Method | 第25-29页 |
| 1.6.2. Magnetization Curve | 第29-32页 |
| 1.6.2.1. Fitting of Magnetization Curve | 第29-31页 |
| 1.6.2.2. Area Method | 第31-32页 |
| 1.7. Thin Film | 第32-34页 |
| 1.8. Applications of thin films | 第34-35页 |
| 1.8.1. Electronic Components | 第34页 |
| 1.8.2. Optical Coatings | 第34-35页 |
| 1.8.3. Magnetic Films for Data Storage | 第35页 |
| 1.8.4. Hard Surface Coatings | 第35页 |
| 1.8.5. Photovoltaic | 第35页 |
| 1.9. Thin Film Growth | 第35-37页 |
| 1.10. Thin Film Deposition techniques | 第37-39页 |
| 1.10.1. Physical Vapor Deposition (PVD) | 第38-39页 |
| 1.10.2. Chemical Vapor Deposition (CVD) | 第39页 |
| 1.11. Goals and Objective | 第39-41页 |
| Chapter 2 Experimental Techniques | 第41-53页 |
| 2.1. Molecular Beam Epitaxy (MBE) | 第41-44页 |
| 2.2. Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED) | 第44-45页 |
| 2.3. Low energy electron diffraction (LEED) | 第45-47页 |
| 2.4. Magnetic Optic Kerr Effect (MOKE) | 第47-50页 |
| 2.4.1. Physical Explanation of MOKE | 第47-48页 |
| 2.4.2. MOKE Configurations | 第48-49页 |
| 2.4.3. Polar MOKE | 第49页 |
| 2.4.4. Longitudinal MOKE | 第49-50页 |
| 2.4.5. Transverse MOKE | 第50页 |
| 2.5. Magnetoresistance | 第50-53页 |
| 2.5.1. Anisotropic Magneto Resistance | 第51-53页 |
| Chapter 3 Manipulating magnetic anisotropies of Co/MgO(001) ultrathin films via oblique deposition | 第53-63页 |
| 3.1. Background | 第53-54页 |
| 3.2. Experimental Details | 第54-55页 |
| 3.3. Results and discussions | 第55-62页 |
| 3.4. Conclusion | 第62-63页 |
| Chapter 4 Effect of Cu buffer layer on magnetic anisotropy of cobalt thin films deposited on MgO (001) substrate | 第63-74页 |
| 4.1. Introduction | 第63-65页 |
| 4.2. Experimental Details | 第65页 |
| 4.3. Result and Discussion | 第65-72页 |
| 4.4. Conclusion | 第72-74页 |
| Chapter 5 Effect of Ar~+ beam sputtering on the magnetic anisotropy of Fe thin films deposited on the MgO(001) substrate | 第74-83页 |
| 5.1 Introduction | 第74-75页 |
| 5.2. Experimental Details | 第75-76页 |
| 5.3. Results and Discussions | 第76-82页 |
| 5.4. Conclusion | 第82-83页 |
| Chapter 6 Conclusions and Future Perspectives | 第83-85页 |
| References | 第85-94页 |
| List of Publications | 第94-96页 |
| Conferences and seminars | 第96页 |
| Awards | 第96-97页 |
