自组装膜对铜在盐酸介质中缓蚀作用的研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第9-24页 |
·铜的腐蚀概况 | 第9页 |
·铜在酸性介质中的腐蚀机理 | 第9-10页 |
·自组装技术概述 | 第10-12页 |
·自组装技术简介 | 第10-11页 |
·自组装技术在腐蚀防护方面的应用 | 第11页 |
·有机缓蚀剂的作用机理 | 第11-12页 |
·腐蚀电化学主要测试方法 | 第12-17页 |
·失重法 | 第12-13页 |
·电化学方法 | 第13-15页 |
·表面形貌分析技术 | 第15页 |
·分子动力学模拟 | 第15-17页 |
参考文献 | 第17-24页 |
第2章 二巯基噻二唑自组装膜对铜缓蚀作用的研究 | 第24-45页 |
·引言 | 第24-25页 |
·试验方法 | 第25-27页 |
·仪器及设备 | 第25页 |
·电极的处理及膜的形成 | 第25页 |
·形貌表征 | 第25-26页 |
·电化学测试 | 第26页 |
·分子模拟 | 第26-27页 |
·结果和讨论 | 第27-40页 |
·扫描电镜图分析 | 第27-28页 |
·接触角分析 | 第28页 |
·红外图谱和拉曼图谱分析 | 第28-29页 |
·循环伏安分析 | 第29-30页 |
·溶液浓度对自组装膜性质的影响 | 第30-35页 |
·组装时间对膜性质的影响 | 第35-39页 |
·分子模拟 | 第39-40页 |
·总结 | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-45页 |
第3章 4-辛基苯酚自组装膜对铜缓蚀作用的研究 | 第45-63页 |
·引言 | 第45-46页 |
·实验方法 | 第46-47页 |
·自组装膜的制备 | 第46页 |
·形貌表征 | 第46页 |
·电化学测试 | 第46页 |
·分子模拟 | 第46-47页 |
·结果和讨论 | 第47-58页 |
·扫描电镜图分析 | 第47-48页 |
·接触角测试 | 第48页 |
·外光谱测试 | 第48-49页 |
·开路电位—时间曲线测试 | 第49-50页 |
·溶液浓度对自组装膜性质的影响 | 第50-54页 |
·组装时间对膜性质的影响 | 第54-58页 |
·分子模拟 | 第58页 |
·总结 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
第4章 混合自组装膜对铜缓蚀作用的研究 | 第63-75页 |
·引言 | 第63-64页 |
·实验方法 | 第64页 |
·自组装膜的制备 | 第64页 |
·测试方法 | 第64页 |
·结果和讨论 | 第64-74页 |
·扫描电镜图分析 | 第64-65页 |
·循环伏安曲线分析 | 第65-66页 |
·开路电位测试 | 第66-67页 |
·不同自组装膜的缓蚀性能比较 | 第67-70页 |
·自组装时间对膜性质的影响 | 第70-74页 |
·结论 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
硕士期间发表论文 | 第78页 |