| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 课题背景 | 第11页 |
| 1.2 光催化概述 | 第11-13页 |
| 1.3 常见光催化剂 | 第13-15页 |
| 1.4 光催化机理 | 第15-19页 |
| 1.4.1 半导体光催化作用机理 | 第15-18页 |
| 1.4.2 半导体光催化反应动力学机理 | 第18-19页 |
| 1.5 影响半导体光催化反应的主要因素 | 第19-20页 |
| 1.5.1 半导体光催化剂结构对光催化活性的影响 | 第19-20页 |
| 1.5.2 载体效应对光催化活性的影响 | 第20页 |
| 1.6 催化剂改性方法 | 第20-22页 |
| 1.6.1 晶粒纳米化 | 第21页 |
| 1.6.2 贵金属沉积 | 第21页 |
| 1.6.3 掺杂 | 第21-22页 |
| 1.7 本论文选题意义、内容及创新点 | 第22-23页 |
| 第二章 多级孔WO_3的合成和光催化性能的研究 | 第23-33页 |
| 2.1 引言 | 第23-25页 |
| 2.1.1 固相法 | 第23页 |
| 2.1.2 气相法 | 第23-24页 |
| 2.1.3 液相法 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-28页 |
| 2.2.1 主要试剂 | 第25页 |
| 2.2.2 主要仪器 | 第25页 |
| 2.2.3 表征手段 | 第25-26页 |
| 2.2.4 材料合成 | 第26-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-32页 |
| 2.3.1 多级孔WO_3的物相分析 | 第28-29页 |
| 2.3.2 多级孔WO_3比表面积及孔径分布分析 | 第29-30页 |
| 2.3.3 多级孔WO_3吸收光谱分析 | 第30-31页 |
| 2.3.4 多级孔WO_3荧光分析 | 第31页 |
| 2.3.5 多级孔WO_3光催化性能分析 | 第31-32页 |
| 2.4 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 多级孔WO_3的Al还原修饰、能带调控和光催化性能研究 | 第33-42页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-36页 |
| 3.2.1 主要试剂 | 第33页 |
| 3.2.2 主要仪器 | 第33-34页 |
| 3.2.3 表征方法 | 第34-35页 |
| 3.2.4 材料合成 | 第35页 |
| 3.2.5 性能测试 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-41页 |
| 3.3.1 Al还原多级孔WO_3的物相分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 Al还原多级孔WO_3的形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.3.3 Al还原多级孔WO_3的元素价态分析 | 第38-39页 |
| 3.3.4 Al还原多级孔WO_3紫外可见吸收分析 | 第39-40页 |
| 3.3.5 Al还原多级孔WO_3的荧光光谱分析 | 第40-41页 |
| 3.3.6 Al还原多级孔WO_3光催化性能分析 | 第41页 |
| 3.4 小结 | 第41-42页 |
| 第四章 Ag_3PO_4/WO_3的制备、光谱调控及光催化性能研究 | 第42-51页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-46页 |
| 4.2.1 主要试剂 | 第43-44页 |
| 4.2.2 主要仪器 | 第44页 |
| 4.2.3 表征手段 | 第44-45页 |
| 4.2.4 材料的合成 | 第45页 |
| 4.2.5 性能测试 | 第45-46页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第46-50页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第46-47页 |
| 4.3.2 形貌分析 | 第47-48页 |
| 4.3.3 比表面积及孔径分析 | 第48页 |
| 4.3.4 吸收光谱分析 | 第48页 |
| 4.3.5 臭氧光催化降解性能分析 | 第48-50页 |
| 4.4 小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 在读研期间发表的研究成果 | 第59页 |
