| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-15页 |
| 1.1.1 量子计算简介 | 第11-14页 |
| 1.1.2 基于半导体的量子计算体系 | 第14-15页 |
| 1.2 半导体门控量子点 | 第15-19页 |
| 1.2.1 门控量子点 | 第15-16页 |
| 1.2.2 单量子点的基本理论:常相互作用模型 | 第16-19页 |
| 1.3 本章小结 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第2章 量子点样品的测量 | 第25-35页 |
| 2.1 低温平台及测量系统 | 第25-29页 |
| 2.1.1 液氦测量平台 | 第25-26页 |
| 2.1.2 He3制冷机 | 第26-27页 |
| 2.1.3 干式稀释制冷机 | 第27-29页 |
| 2.2 量子点测量常用方式 | 第29-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 第3章 射频反射式测量 | 第35-61页 |
| 3.1 射频反射式测量基本原理 | 第35-40页 |
| 3.1.1 传统测量方式的局限 | 第35-36页 |
| 3.1.2 射频反射式测量基本原理及性质 | 第36-39页 |
| 3.1.3 零拍测量:信号的调制解调 | 第39-40页 |
| 3.2 射频反射式的测量系统 | 第40-43页 |
| 3.3 量子点中的各种射频探测器 | 第43-54页 |
| 3.3.1 砷化镓量子点中的测量 | 第43-47页 |
| 3.3.2 石墨烯量子点中的测量 | 第47-51页 |
| 3.3.3 砷化镓量子点中的射频电极探测器 | 第51-54页 |
| 3.4 谐振电路的模拟和优化 | 第54-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第4章 射频反射式测量的应用 | 第61-71页 |
| 4.1 Rapid Measurement快速测量 | 第61-63页 |
| 4.2 Multiplex Readout多信道同时读出 | 第63-67页 |
| 4.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第5章 总结与展望 | 第71-75页 |
| 5.1 总结 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 附录A 样品加工与制备 | 第75-83页 |
| A.1 微纳加工工艺及仪器 | 第75-80页 |
| A.2 量子点加工基本流程 | 第80-82页 |
| A.3 小结 | 第82-83页 |
| 附录B 经典射频反射式实验的参数对比 | 第83-84页 |
| 对应的参考文献 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第87页 |