大面积微通道板清刷与测试技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 微通道板的发展概况 | 第8-10页 |
| 1.1.1 微通道板的应用 | 第8-9页 |
| 1.1.2 微通道板的研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2 MCP电子清刷和性能测试概况 | 第10-11页 |
| 1.2.1 热电子源法 | 第10-11页 |
| 1.2.2 紫外光电法 | 第11页 |
| 1.3 本论文的研究背景 | 第11-12页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第12-13页 |
| 2 大面积MCP清刷和测试理论基础 | 第13-27页 |
| 2.1 MCP工作原理及其结构特性 | 第13-15页 |
| 2.2 MCP的特性评价参数 | 第15-17页 |
| 2.2.1 MCP的增益与电流传递特性 | 第15-16页 |
| 2.2.2 MCP的均匀性 | 第16页 |
| 2.2.3 MCP的体电阻 | 第16页 |
| 2.2.4 MCP的暗电流与暗计数 | 第16-17页 |
| 2.3 新型大面积均匀面电子源理论研究 | 第17-21页 |
| 2.3.1 新型大面积面电子源设计 | 第17-19页 |
| 2.3.2 面电子源出射电子轨迹计算模型 | 第19-21页 |
| 2.4 MCP电子清刷与测试技术理论研究 | 第21-26页 |
| 2.4.1 MCP电子清刷机理分析 | 第21-23页 |
| 2.4.2 MCP特性参数测试原理 | 第23-24页 |
| 2.4.3 MCP电子清刷闭环控制算法的理论 | 第24-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 多工位大面积MCP清刷测试系统硬件设计 | 第27-44页 |
| 3.1 系统总体设计 | 第27-35页 |
| 3.1.1 真空系统设计 | 第28-32页 |
| 3.1.2 机械结构设计 | 第32-34页 |
| 3.1.3 电控系统 | 第34-35页 |
| 3.2 大面积面电子源 | 第35-37页 |
| 3.3 微弱电流采集 | 第37-39页 |
| 3.4 清刷控制系统 | 第39-41页 |
| 3.4.1 MCP清刷控制器 | 第39-40页 |
| 3.4.2 清刷专用高压电源 | 第40-41页 |
| 3.5 MCP性能测试系统 | 第41-42页 |
| 3.5.1 三通道电流计 | 第41页 |
| 3.5.2 测试专用高压电源 | 第41-42页 |
| 3.6 本章小结 | 第42-44页 |
| 4 MCP清刷测试软件设计和实验 | 第44-67页 |
| 4.1 真空系统的控制和性能分析 | 第44-50页 |
| 4.1.1 真空系统的软件控制 | 第44-47页 |
| 4.1.2 PLC与上位机的通信 | 第47-48页 |
| 4.1.3 真空系统的性能分析 | 第48-50页 |
| 4.2 大面积MCP性能测试实验及分析 | 第50-57页 |
| 4.2.1 MCP性能测试软件模块 | 第50-51页 |
| 4.2.2 MCP体电阻测试 | 第51-53页 |
| 4.2.3 MCP电流增益测试实验 | 第53-55页 |
| 4.2.4 MCP均匀性测试 | 第55-57页 |
| 4.3 大面积MCP电子清刷实验及分析 | 第57-63页 |
| 4.3.1 MCP清刷控制器软件系统设计 | 第57-60页 |
| 4.3.2 MCP清刷实验以及结果分析 | 第60-61页 |
| 4.3.3 MCP电子清刷工艺对MCP特性的影响 | 第61-63页 |
| 4.4 软件通信模块和数据库设计 | 第63-66页 |
| 4.4.1 软件通信层设计 | 第63-64页 |
| 4.4.2 软件数据库设计 | 第64-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 5 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第67-68页 |
| 5.2 有待进一步解决的问题 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 附录 | 第73页 |
