| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 铁电薄膜 | 第10-15页 |
| 1.2.1 铁电体的物理特性 | 第10-13页 |
| 1.2.2 铁电薄膜的分类和应用 | 第13-15页 |
| 1.3 锆钛酸铅 | 第15-16页 |
| 1.4 柔性微型器件的发展 | 第16-20页 |
| 1.5 课题的目的和意义 | 第20-22页 |
| 2 铁电薄膜的制备和表征方法 | 第22-32页 |
| 2.1 脉冲激光沉积 | 第22-23页 |
| 2.2 X射线衍射法 | 第23-24页 |
| 2.3 原子力显微镜 | 第24-28页 |
| 2.3.1 基本原理 | 第24-26页 |
| 2.3.2 工作模式 | 第26-27页 |
| 2.3.3 压电力显微镜 | 第27-28页 |
| 2.4 透射电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.5 铁电测试系统 | 第29-32页 |
| 3 硬质衬底上的PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜 | 第32-40页 |
| 3.1 靶材的制备 | 第32-34页 |
| 3.2 PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜的制备及性能测试 | 第34-37页 |
| 3.3 铁电存储单元 | 第37-39页 |
| 3.3.1 结构 | 第37-38页 |
| 3.3.2 性能测试 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 柔性PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜的制备及其微观性质 | 第40-58页 |
| 4.1 柔性衬底的制备与表征 | 第40-42页 |
| 4.2 薄膜在柔性衬底上取向生长 | 第42-44页 |
| 4.3 衬底类型对薄膜性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.4 弯曲半径对铁电极化的影响 | 第46-53页 |
| 4.5 弯曲样品铁电极化的稳定性 | 第53-55页 |
| 4.6 弯曲次数对铁电极化的影响 | 第55-56页 |
| 4.7 本章小结 | 第56-58页 |
| 5 柔性PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜的宏观电学性能 | 第58-66页 |
| 5.1 介电性能 | 第58-60页 |
| 5.2 铁电性能 | 第60-63页 |
| 5.2.1 柔性弯曲对电滞回线的影响 | 第60-61页 |
| 5.2.2 弯曲次数对电滞回线的影响 | 第61页 |
| 5.2.3 温度对电滞回线的影响 | 第61-63页 |
| 5.3 铁电疲劳性能 | 第63-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 6 结论与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 结论 | 第66页 |
| 6.2 展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 附录 | 第74页 |
