AZ91D镁合金微弧氧化膜生长过程及机理的研究
| 摘要 | 第1-11页 |
| Abstract | 第11-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-25页 |
| ·选题背景 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化概论 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化的发展历程 | 第15页 |
| ·微弧氧化的基本过程 | 第15-16页 |
| ·镁合金微弧氧化研究现状 | 第16-24页 |
| ·电源及电参数研究 | 第17-18页 |
| ·电解液及添加剂研究 | 第18页 |
| ·膜层生长及机理研究 | 第18-24页 |
| ·击穿机制 | 第18-19页 |
| ·膜层的微观结构及形成机制 | 第19-22页 |
| ·膜层的生长机制 | 第22-24页 |
| ·本论文的主要内容、目的 | 第24-25页 |
| 第2章 硅酸钠对镁合金微弧氧化膜生长的影响 | 第25-34页 |
| ·实验方法 | 第25-26页 |
| ·实验材料及工艺 | 第25页 |
| ·检测方法 | 第25-26页 |
| ·结果及讨论 | 第26-32页 |
| ·微弧氧化过程火花现象 | 第26-27页 |
| ·膜层宏观形貌及生长速率 | 第27-28页 |
| ·膜层微观形貌及成分 | 第28-32页 |
| ·膜层耐蚀性 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 氟化钾对镁合金微弧氧化膜生长的影响 | 第34-42页 |
| ·实验方法 | 第34-35页 |
| ·实验材料及工艺 | 第34页 |
| ·检测方法 | 第34-35页 |
| ·结果及讨论 | 第35-40页 |
| ·微弧氧化过程火花现象 | 第35-36页 |
| ·膜层厚度及生长速率 | 第36页 |
| ·膜层微观形貌 | 第36-37页 |
| ·膜层成分 | 第37-39页 |
| ·膜层耐蚀性 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 基体中不同相组成物上微弧氧化膜的生长 | 第42-50页 |
| ·实验方法 | 第42-43页 |
| ·实验材料 | 第42页 |
| ·工艺参数 | 第42页 |
| ·检测方法 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-49页 |
| ·基体相组成的形貌及成分 | 第43页 |
| ·微弧氧化过程不同相组成表面形貌变化 | 第43-45页 |
| ·微弧氧化膜形成过程中不同相组成表面元素变化 | 第45-46页 |
| ·微弧氧化膜截面形貌及物相组成 | 第46-47页 |
| ·微弧氧化膜表面元素的分布 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 镁合金微弧氧化膜的生长方式 | 第50-59页 |
| ·实验方法 | 第50-53页 |
| ·研究思路 | 第50-52页 |
| ·分界区直接观察法 | 第50-51页 |
| ·全基体直接测量法 | 第51-52页 |
| ·膜层宏观计算法 | 第52页 |
| ·实验工艺参数 | 第52-53页 |
| ·检测方法 | 第53页 |
| ·结果及讨论 | 第53-58页 |
| ·膜层的生长方式 | 第53-56页 |
| ·分界区直接观察法结果 | 第53-54页 |
| ·全基体直接测量法结果 | 第54页 |
| ·膜层宏观测量计算法结果 | 第54-56页 |
| ·膜层生长分析 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第6章 膜层生长过程中孔隙和致密性的变化规律 | 第59-71页 |
| ·实验方法 | 第59-61页 |
| ·膜层表面孔隙研究方法 | 第59页 |
| ·膜层致密度研究方法 | 第59页 |
| ·材料及工艺参数 | 第59-60页 |
| ·检测方法 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-70页 |
| ·膜层表面微孔分布 | 第61-63页 |
| ·膜层表面微孔数量及比例 | 第63-64页 |
| ·膜层表面孔隙率 | 第64-65页 |
| ·膜层致密性 | 第65-67页 |
| ·膜层物相组成 | 第67-68页 |
| ·膜层孔隙及致密性对耐蚀性的影响 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第7章 生长速率对镁合金微弧氧化膜的影响 | 第71-82页 |
| ·实验 | 第71-72页 |
| ·实验材料 | 第71页 |
| ·实验工艺 | 第71页 |
| ·检测方法 | 第71-72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-80页 |
| ·膜层的表面形貌及孔隙 | 第72-75页 |
| ·膜层的截面形貌 | 第75页 |
| ·膜层的物相 | 第75-76页 |
| ·膜层的元素分布 | 第76-78页 |
| ·膜层的致密性 | 第78-79页 |
| ·膜层的耐蚀性 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第8章 不同加压方式下微弧氧化膜的生长特性 | 第82-97页 |
| ·实验方法 | 第82-83页 |
| ·实验材料 | 第82页 |
| ·实验工艺 | 第82页 |
| ·检测方法 | 第82-83页 |
| ·结果与讨论 | 第83-95页 |
| ·不同时间下膜层厚度及生长速率 | 第83-84页 |
| ·不同时间下膜层表面形貌及微孔统计 | 第84-87页 |
| ·不同时间下膜层截面形貌 | 第87-89页 |
| ·不同时间下膜层物相组成 | 第89-90页 |
| ·不同时间下膜层主要元素分布 | 第90-93页 |
| ·不同时间下膜层耐蚀性 | 第93-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 第9章 镁合金微弧氧化膜生长机理的探讨 | 第97-108页 |
| ·膜层形成机理分析 | 第97-102页 |
| ·膜层基本形成过程 | 第97页 |
| ·击穿模型及场强计算 | 第97-100页 |
| ·膜层成分、微观结构形成分析 | 第100-102页 |
| ·膜层成长机理分析 | 第102-106页 |
| ·膜层基本成长过程 | 第102-103页 |
| ·膜层的成长机理 | 第103-106页 |
| ·膜层厚度变化分析 | 第103-104页 |
| ·膜层生长速率变化分析 | 第104页 |
| ·膜层微观结构变化分析 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106-108页 |
| 本文结论 | 第108-110页 |
| 本文创新点 | 第110-111页 |
| 展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 附录A 攻读博士学位期间发表论文及研究成果 | 第123-124页 |
