| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-43页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·多铁性材料的研究历程、分类和Landau理论 | 第14-18页 |
| ·多铁性材料的研究历程 | 第14-16页 |
| ·多铁性材料的分类 | 第16-17页 |
| ·多铁体系的Landau理论 | 第17-18页 |
| ·氧空位对氧化物薄膜物理性质的调控 | 第18-26页 |
| ·氧空位对超导性质的调控 | 第18-20页 |
| ·氧空位对铁电性质的调控 | 第20-22页 |
| ·氧空位对磁学性质的调控 | 第22-24页 |
| ·氧空位对光学性质的调控 | 第24-25页 |
| ·氧空位对电化学性质的调控 | 第25-26页 |
| ·应变对氧化物薄膜物理性质的调控 | 第26-31页 |
| ·水平应变对氧化物薄膜物性的调控 | 第26-28页 |
| ·垂直应变对氧化物薄膜物性的调控 | 第28-31页 |
| ·多铁性材料Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3 的研究进展 | 第31-34页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3 的晶体结构 | 第31页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3 的研究进展 | 第31-34页 |
| ·本论文的选题思路和研究内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-43页 |
| 第二章 样品的制备方法和表征手段 | 第43-62页 |
| ·靶材的制备和基片的选择 | 第43-45页 |
| ·靶材的制备 | 第43-45页 |
| ·基片的选择 | 第45页 |
| ·样品的制备 | 第45-49页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第45-48页 |
| ·电极制备 | 第48-49页 |
| ·样品的表征和物性分析方法 | 第49-61页 |
| ·X射线衍射仪 | 第49-50页 |
| ·台阶仪 | 第50-51页 |
| ·压电原子力显微镜 | 第51-52页 |
| ·透射电子显微镜 | 第52-53页 |
| ·X射线光电子谱 | 第53-54页 |
| ·核共振背散色光谱 | 第54-55页 |
| ·综合物性测量系统 | 第55-56页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第56-57页 |
| ·电学性质测量 | 第57-58页 |
| ·二次谐波产生效应 | 第58-59页 |
| ·磁电耦合测试 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第三章 Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜制备与磁性质研究 | 第62-83页 |
| ·引言 | 第62-64页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜的制备 | 第64-66页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3 靶材的制备 | 第64-65页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜制备工艺和基片选择 | 第65-66页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜结构和基本性质表征 | 第66-71页 |
| ·X射线衍射分析 | 第66-67页 |
| ·表面形貌分析 | 第67-68页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第68页 |
| ·核共振背散射谱分析 | 第68-70页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第70-71页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜磁性质的调控 | 第71-76页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁磁居里温度的调控 | 第72-73页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜矫顽场的调控 | 第73-75页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜饱和磁化强度的调控 | 第75-76页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜磁性质调控小结 | 第76页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁磁性起源的物理机制 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 第四章 Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁电性质与光性质研究 | 第83-101页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁电性质的调控 | 第83-89页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁电居里温度和介电常数的调控 | 第83-86页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁电性的表征 | 第86-89页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜铁电性调控的物理机制 | 第89-92页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜磁介电耦合效应 | 第92-94页 |
| ·Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3-δ 薄膜光学性质的调控 | 第94-96页 |
| ·总结与讨论 | 第96-99页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| ·第三、第四章结果总结和讨论 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第五章 (Eu_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3)_0.5: (MgO)_0.5 复合薄膜制备与多铁性研究 | 第101-118页 |
| ·引言 | 第101-102页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜的制备 | 第102-104页 |
| ·EBTO: MgO复合陶瓷靶材的制备 | 第102-103页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜制备工艺和基片选择 | 第103-104页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜的微结构表征 | 第104-109页 |
| ·X射线衍射分析 | 第104-106页 |
| ·表面形貌分析 | 第106-107页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第107-109页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜的多铁性质表征 | 第109-114页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜的磁性质表征 | 第109-111页 |
| ·EBTO: MgO复合薄膜的电性质表征 | 第111-114页 |
| ·本章小结 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-118页 |
| 第六章 总结和展望 | 第118-120页 |
| ·研究总结 | 第118-119页 |
| ·研究展望 | 第119-120页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
