| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·ZnO基半导体材料研究基础 | 第8-12页 |
| ·TiO_2基催化剂研究基础 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 氧化锌晶体和二氧化钛晶体的基本性质 | 第15-32页 |
| ·氧化锌的晶体结构和基本性质 | 第15-26页 |
| ·二氧化钛的晶体结构和基本性质 | 第26-32页 |
| 第三章 实验方法和测试仪器及原理 | 第32-49页 |
| ·离子注入技术简介 | 第32-37页 |
| ·脉冲激光沉积技术简介 | 第37-40页 |
| ·测试仪器及原理 | 第40-49页 |
| 第四章 铜,钴离子注入单晶氧化锌的磁光特性研究 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验过程 | 第49-51页 |
| ·实验结果及讨论 | 第51-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 第五章 钴离子注入对二氧化钛晶体的结构和光学性能的影响 | 第59-67页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验过程 | 第60页 |
| ·实验结果及讨论 | 第60-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第六章 脉冲激光法制备Li_(0.2)Zn_(0.8)O/Al_(0.15)Zn_(0.85)O双层膜及其光敏特性研究 | 第67-76页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·实验过程 | 第67-68页 |
| ·实验结果及讨论 | 第68-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 第七章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-85页 |
| 在学期间的研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |