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InP基单模半导体激光器的制作技术研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-6页
第一章 绪论第6-10页
   ·引言第6页
   ·InP基单模半导体激光器研究进展第6-8页
   ·研究目的和意义第8页
   ·本文研究内容第8-10页
第二章 单模半导体激光器的模式特性第10-19页
   ·半导体激光器的基本原理第10-13页
   ·模式特性第13-15页
   ·脊型波导第15-16页
   ·脊型波导结构的单模条件第16-17页
   ·本章总结第17-19页
第三章 1550nm InP基单模半导体激光器的结构设计第19-35页
   ·半导体激光器的外延材料结构设计第19-20页
   ·1550nm InP基单模半导体激光器仿真第20-21页
   ·器件形貌对器件模式特性的影响第21-26页
   ·器件形貌对器件输出特性的影响第26-30页
   ·仿真效果第30-33页
   ·本章总结第33-35页
第四章 InP基单模半导体激光器的制备工艺第35-56页
   ·材料外延生长技术第35-37页
   ·外延片的光刻工艺第37-41页
   ·外延片的刻蚀工艺第41-47页
   ·外延片后续制作工艺第47-49页
   ·器件的输出特性测试第49-53页
   ·温度对器件输出特性的测试第53-56页
结论第56-57页
致谢第57-58页
参考文献第58-60页

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