| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·金纳米粒子的性质及应用前景 | 第9-14页 |
| ·金纳米粒子的性质 | 第9-11页 |
| ·金纳米粒子的应用前景 | 第11-14页 |
| ·金纳米粒子的制备和固定化 | 第14-19页 |
| ·金纳米粒子的制备 | 第14-17页 |
| ·金纳米粒子的固定化 | 第17-19页 |
| ·ITO 玻璃上金纳米薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·本课题的选题依据、研究目的及主要研究内容 | 第21-23页 |
| ·选题依据及研究目的 | 第21页 |
| ·主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 ITO 表面上金纳米薄膜的电化学制备及表征 | 第23-32页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·电化学沉积的原理及方法 | 第24-26页 |
| ·电化学沉积原理 | 第24页 |
| ·电沉积方法 | 第24-26页 |
| ·实验部分 | 第26-29页 |
| ·实验所用试剂 | 第26页 |
| ·实验所用仪器和设备 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·ITO 玻璃表面上金纳米薄膜的表征 | 第27-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-31页 |
| ·XRD 测试分析 | 第29-30页 |
| ·SEM 测试分析 | 第30-31页 |
| ·吸收光谱测试分析 | 第31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第3章 退火处理对 ITO 表面上电沉积金纳米薄膜的影响 | 第32-38页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验过程 | 第33页 |
| ·退火工艺 | 第33页 |
| ·电沉积过程 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-37页 |
| ·ITO 导电玻璃电阻分析 | 第33-34页 |
| ·SEM 形貌分析 | 第34-35页 |
| ·循环伏安曲线分析 | 第35-36页 |
| ·吸收光谱分析 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第4章 ITO 表面上结合 AAO 模板与电沉积法制备金纳米阵列的研究 | 第38-57页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-45页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第39页 |
| ·实验所用仪器和设备 | 第39-40页 |
| ·实验装置 | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-56页 |
| ·AAO 模板的表征 | 第45-47页 |
| ·氧化时间对铝片表面形貌的影响 | 第47-51页 |
| ·抛光工艺的优化 | 第51-55页 |
| ·去铝基工艺的研究 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第5章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57-58页 |
| ·本文主要研究工作 | 第57-58页 |
| ·本文主要创新点 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 科研成果与参与情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
