中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-17页 |
·选题的背景与意义 | 第7-8页 |
·铁氧体材料加工技术 | 第8-9页 |
·CMP 技术介绍 | 第9-10页 |
·CMP 原理 | 第9-10页 |
·CMP 技术特点 | 第10页 |
·CMP 机床分类 | 第10-12页 |
·铁氧体材料研究状况 | 第12-15页 |
·铁氧体材料的制备、成分研究状况 | 第12-13页 |
·加工质量与铁氧体材料性能的研究状况 | 第13-14页 |
·铁氧体材料特性的数值仿真状况 | 第14-15页 |
·本课题的主要研究内容和总体研究方案 | 第15-17页 |
第二章 铁氧体材料抛光工艺研究 | 第17-44页 |
·CMP 抛光轨迹研究 | 第17-34页 |
·行星轮系抛光轨迹 | 第17-24页 |
·抛光头旋转式抛光轨迹 | 第24-28页 |
·抛光头直线摆动式抛光轨迹 | 第28-32页 |
·抛光头弧形摆动式抛光轨迹 | 第32-34页 |
·抛光过程材料去除均匀性研究 | 第34-42页 |
·研究对象与准备 | 第34-36页 |
·抛光过程工件材料去除均匀性的数值分析 | 第36-42页 |
·本章小结 | 第42-44页 |
第三章 铁氧体材料抛光表面质量评价 | 第44-57页 |
·铁氧体材料抛光表面质量评价 | 第44-45页 |
·表面质量检测方法 | 第45-47页 |
·铁氧体工件表面形貌与三维粗糙度测量实验 | 第47-50页 |
·实验测量装置 | 第47-48页 |
·实验方案与测量参数介绍 | 第48-50页 |
·铁氧体工件表面质量的综合评价 | 第50-56页 |
·损伤形式分析 | 第50页 |
·A 组实验结果分析 | 第50-53页 |
·B 组实验结果分析 | 第53-55页 |
·A、B 组实验结果对比 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第四章 铁氧体电磁性能有限元仿真研究 | 第57-69页 |
·软磁 MnZn 铁氧体使役性能介绍 | 第57-59页 |
·磁滞回线 | 第57-58页 |
·初始磁导率 | 第58页 |
·损耗角正切和品质因素 | 第58页 |
·电感系数 AL与电感值 L | 第58-59页 |
·ANSOFT MAXWELL 电磁场有限元分析软件介绍 | 第59-60页 |
·EE 型软磁铁氧体磁芯三维有限元仿真 | 第60-61页 |
·仿真结果分析 | 第61-68页 |
·损伤深度对 EE 型铁氧体磁芯电感的影响 | 第62-64页 |
·损伤面积对 EE 型铁氧体磁芯电感的影响 | 第64-65页 |
·损伤数量对 EE 型铁氧体磁芯电感的影响 | 第65-67页 |
·工件表面微观不平整度对 EE 型铁氧体磁芯电感的影响 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
第五章 结论与展望 | 第69-71页 |
·结论 | 第69-70页 |
·展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
发表论文和科研情况说明 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |