不对称金属铟酞菁光限幅高分子材料的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·激光防护材料的性能标准 | 第8-10页 |
| ·基于线性光学原理的激光防护 | 第10页 |
| ·基于相变原理的激光防护 | 第10-11页 |
| ·基于非线性光学原理的激光防护 | 第11-16页 |
| ·非线性光学 | 第11-12页 |
| ·非线性激光防护材料的光限幅原理 | 第12-16页 |
| ·非线性光限幅材料的分类 | 第16-20页 |
| ·半导体光限幅材料 | 第16页 |
| ·含C_(60)有机光限幅材料 | 第16-17页 |
| ·含碳纳米管光限幅材料 | 第17-18页 |
| ·有机三阶非线性光限幅材料 | 第18-20页 |
| ·无机金属团簇材料 | 第20页 |
| ·酞菁类化合物在光限幅材料方面的应用 | 第20-26页 |
| ·酞菁化合物的合成方法 | 第20-21页 |
| ·不对称金属酞菁的合成 | 第21-24页 |
| ·酞菁化合物的光限幅性能 | 第24-25页 |
| ·酞菁光限幅材料的固件化 | 第25-26页 |
| ·本论文研究目的和意义 | 第26-28页 |
| 第二章 试剂与仪器 | 第28-30页 |
| ·主要试验试剂 | 第28-29页 |
| ·主要试验仪器 | 第29页 |
| ·主要表征仪器 | 第29-30页 |
| 第三章 单羟乙氧基不对称金属铟酞菁的合成与表征 | 第30-37页 |
| ·单羟乙氧基不对称金属铟酞菁的合成 | 第30-32页 |
| ·4-羟乙氧基邻苯二甲腈的合成 | 第30页 |
| ·4-枯丁苯氧基邻苯二甲腈的合成 | 第30-31页 |
| ·单羟乙氧基不对称金属铟酞菁的合成 | 第31-32页 |
| ·单羟乙氧基不对称金属铟酞菁的表征 | 第32-34页 |
| ·4-羟乙氧基邻苯二甲腈的表征 | 第32-33页 |
| ·4-枯丁苯氧基邻苯二甲腈的表征 | 第33-34页 |
| ·单羟乙氧基不对称金属铟酞菁的表征 | 第34-36页 |
| ·红外光谱分析 | 第34-35页 |
| ·液相联机质谱分析 | 第35-36页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 不对称金属铟酞菁线形聚合物的合成与表征 | 第37-49页 |
| ·不对称金属铟酞菁线形聚合物的合成 | 第37-39页 |
| ·不对称金属铟酞菁引发剂的合成 | 第37-38页 |
| ·不对称金属铟酞菁线形聚合物的合成 | 第38-39页 |
| ·不对称金属铟酞菁引发剂的表征 | 第39-41页 |
| ·红外光谱分析 | 第39页 |
| ·液相联机质谱分析 | 第39-40页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第40-41页 |
| ·不对称金属铟酞菁线形聚合物的表征 | 第41-48页 |
| ·红外光谱分析 | 第41页 |
| ·GPC谱图分析 | 第41-43页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第43-44页 |
| ·Z扫描测试与分析 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
