基于钴基非晶微带MI磁敏元件的制作
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·选题背景和研究意义 | 第14页 |
| ·非晶态合金的形成机理和制备方法 | 第14-18页 |
| ·非晶态合金的形成机理 | 第14-16页 |
| ·非晶态合金的制备方法 | 第16-18页 |
| ·钴基非晶软磁材料研究现状 | 第18-21页 |
| ·钴基非晶合金的发展状况 | 第18-19页 |
| ·磁场退火主要机理及研究现状 | 第19-20页 |
| ·钴基非晶软磁合金的应用 | 第20-21页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-24页 |
| 第2章 实验方法 | 第24-36页 |
| ·实验流程与仪器 | 第24-25页 |
| ·实验流程 | 第24-25页 |
| ·实验仪器 | 第25页 |
| ·实验样品制备 | 第25-28页 |
| ·熔炼母合金 | 第25-27页 |
| ·钴基非晶微带的制备 | 第27页 |
| ·MI磁敏感元件的制备 | 第27-28页 |
| ·等温磁场热退火 | 第28-29页 |
| ·磁场退火装置 | 第28-29页 |
| ·磁场退火工艺 | 第29页 |
| ·实验样品结构表征和性能测试 | 第29-34页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第30页 |
| ·热稳定性分析(DSC) | 第30-31页 |
| ·软磁性能测试 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 钴基非晶微带的制备和磁学性能 | 第36-52页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·钴基非晶微带的制备 | 第37-44页 |
| ·合金微带制备工艺 | 第37-39页 |
| ·物相分析 | 第39-42页 |
| ·热稳定性分析 | 第42-44页 |
| ·钴基非晶微带的磁学性能 | 第44-49页 |
| ·实验方法 | 第45-46页 |
| ·CoFeSiB非晶微带的磁学性能 | 第46-47页 |
| ·CoFeSiBMo非晶微带的磁学性能 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第49-52页 |
| 第4章 MI磁敏元件的制作和性能测试 | 第52-62页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·横向驱动下非晶微带的巨磁阻抗(GMI)效应 | 第53-55页 |
| ·MI磁敏元件的制作 | 第55-57页 |
| ·磁芯样品制备 | 第55-56页 |
| ·磁芯灌装 | 第56-57页 |
| ·MI磁敏元件性能测试 | 第57-61页 |
| ·测试方法 | 第57-58页 |
| ·CoFeSiB磁芯的MI磁敏元件磁学性能 | 第58-60页 |
| ·CoFeSiBMo磁芯的MI磁敏元件磁学性能 | 第60-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 第5章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·主要工作和研究结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第74页 |
