中频反应磁控溅射纳米TiO2薄膜及激光辐照效应
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-24页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·二氧化钛(TiO_2)简介 | 第10-11页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第10页 |
| ·TiO_2薄膜的基本性质和应用 | 第10-11页 |
| ·TiO_2薄膜的制备和应用 | 第11-19页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第11-16页 |
| ·TiO_2薄膜的主要应用 | 第16-19页 |
| ·激光辐照TiO_2薄膜的研究进展 | 第19-22页 |
| ·TiO_2薄膜的改性处理 | 第19-21页 |
| ·激光辐照TiO_2薄膜的研究进展 | 第21-22页 |
| ·本课题研究目标与意义 | 第22-24页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的制备及后处理 | 第24-33页 |
| ·磁控溅射技术基本原理 | 第24-28页 |
| ·薄膜溅射技术发展 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射技术原理及特点 | 第25-28页 |
| ·反应磁控溅射制备TiO_2纳米薄膜 | 第28-30页 |
| ·中频反应磁控溅射系统及制备工艺 | 第28页 |
| ·反应磁控溅射制备TiO_2纳米薄膜的工艺参数 | 第28-30页 |
| ·反应磁控溅射纳米薄膜的生长过程 | 第30-31页 |
| ·薄膜的成核过程 | 第30页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第30-31页 |
| ·薄膜的后处理 | 第31-32页 |
| ·退火热处理 | 第31-32页 |
| ·激光辐照处理 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 纳米TiO_2薄膜的结构及激光辐照效应 | 第33-45页 |
| ·薄膜表面形貌AFM分析 | 第33-36页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试原理 | 第33-34页 |
| ·TiO_2薄膜AFM分析 | 第34-35页 |
| ·激光辐照对薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第36-42页 |
| ·X射线衍射(XRD)测量原理 | 第36-37页 |
| ·TiO_2薄膜的XRD分析 | 第37-40页 |
| ·激光辐照对TiO_2薄膜晶体质量的改善 | 第40-42页 |
| ·薄膜表面组分EDS研究 | 第42-44页 |
| ·X射线能谱仪(EDS)测量原理 | 第42页 |
| ·TiO_2薄膜的EDS研究 | 第42-44页 |
| ·激光辐照TiO_2薄膜的EDS研究 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 TiO_2薄膜的光学性质及激光辐照效应 | 第45-55页 |
| ·TiO_2薄膜的紫外红外光吸收特性 | 第45-50页 |
| ·透射-吸收光谱测试原理 | 第45-46页 |
| ·TiO_2薄膜的光吸收特性研究 | 第46-48页 |
| ·激光辐照对TiO_2薄膜光吸收特性的影响 | 第48-50页 |
| ·TiO_2薄膜的光催化特性 | 第50-54页 |
| ·TiO_2半导体光催化原理 | 第50-51页 |
| ·反应磁控溅射生长TiO_2纳米薄膜光催化性质 | 第51-53页 |
| ·后处理TiO_2薄膜的光催化特性研究 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 TiO_2薄膜的电学性质及激光辐照效应 | 第55-64页 |
| ·TiO_2薄膜的伏安特性 | 第55-57页 |
| ·薄膜伏安曲线测试 | 第55-56页 |
| ·TiO_2薄膜的伏安特性 | 第56-57页 |
| ·TiO_2薄膜的霍尔效应研究 | 第57-63页 |
| ·霍尔测试仪工作原理 | 第58-59页 |
| ·TiO_2薄膜的霍尔效应研究 | 第59-63页 |
| ·激光辐照TiO_2薄膜的霍尔效应分析 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 总结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 硕士期间论文成果 | 第74页 |
