摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
·钛及钛合金 | 第11-18页 |
·钛储量 | 第11页 |
·钛合金的制取 | 第11页 |
·钛及钛合金的性能 | 第11-12页 |
·钛合金的应用 | 第12-15页 |
·钛合金的表面处理方式 | 第15-18页 |
·微弧氧化 | 第18-22页 |
·微弧氧化发展历史 | 第18-19页 |
·微弧氧化基本原理与过程 | 第19-20页 |
·微弧氧化特点 | 第20-21页 |
·钛合金微弧氧化的研究现状 | 第21-22页 |
·钛合金微弧氧化所面临的问题 | 第22页 |
·本课题研究内容和目的 | 第22-25页 |
第二章 实验设备与方案 | 第25-31页 |
·实验材料与设备 | 第25-26页 |
·实验材料与药品 | 第25页 |
·实验设备 | 第25-26页 |
·实验工艺与过程 | 第26-27页 |
·试样的准备 | 第27页 |
·微弧氧化 | 第27页 |
·实验参数的选择 | 第27-29页 |
·电流密度和占空比的选择 | 第27-28页 |
·氧化时间的选择 | 第28页 |
·电解液的选择 | 第28-29页 |
·微弧氧化膜层组织结构及性能检测 | 第29-31页 |
·表面形貌和截面分析 | 第29页 |
·物相分析 | 第29页 |
·摩擦磨损性能检测 | 第29页 |
·腐蚀试验 | 第29-31页 |
第三章 恒流模式下各电参数对Ti6AL4V微弧氧化的影响 | 第31-45页 |
·电参数对于微弧氧化电压的影响 | 第31-34页 |
·电流密度对于微弧氧化电压的影响 | 第31-33页 |
·占空比对于微弧氧化电压的影响 | 第33-34页 |
·电流密度对于微弧氧化膜层的影响 | 第34-37页 |
·电流密度对于微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第34-35页 |
·电流密度对于微弧氧化膜层厚度的影响 | 第35-36页 |
·电流密度对于微弧氧化膜层组成相的影响 | 第36-37页 |
·占空比对于微弧氧化膜层的影响 | 第37-41页 |
·占空比对于微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第37-39页 |
·占空比对于微弧氧化膜层厚度的影响 | 第39-40页 |
·占空比对于微弧氧化膜层组成相的影响 | 第40-41页 |
·氧化时间对于微弧氧化膜层的影响 | 第41-44页 |
·氧化时间对于微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第41-42页 |
·氧化时间对于微弧氧化膜层厚度的影响 | 第42-43页 |
·氧化时间对于微弧氧化膜层组成相的影响 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 SiC添加剂对Ti6Al4V微弧氧化的影响 | 第45-51页 |
·纳米SiC颗粒对于微弧氧化电压的影响 | 第46-47页 |
·纳米SiC颗粒对于微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第47-48页 |
·纳米SiC颗粒对于微弧氧化膜层厚度的影响 | 第48-49页 |
·纳米SiC颗粒对于微弧氧化膜层组成相的影响 | 第49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
第五章 Ti6Al4V微弧氧化膜层的耐蚀性能 | 第51-57页 |
·微弧氧化对于Ti6Al4V耐蚀性能的影响 | 第51-52页 |
·电流密度对于微弧氧化膜层耐蚀性能的影响 | 第52-53页 |
·占空比对于微弧氧化膜层耐蚀性能的影响 | 第53-54页 |
·氧化时间对于微弧氧化膜层耐蚀性能的影响 | 第54-55页 |
·纳米SiC颗粒对于微弧氧化膜层耐蚀性能的影响 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第六章 Ti6Al4V微弧氧化膜层摩擦磨损性能 | 第57-73页 |
·摩擦磨损机理与表征 | 第57-59页 |
·摩擦磨损机理与类型 | 第57页 |
·材料摩擦磨损的表征 | 第57-58页 |
·材料摩擦系数和磨损量的测量 | 第58-59页 |
·微弧氧化对于Ti6Al4V摩擦磨损性能的影响 | 第59-71页 |
·Ti6Al4V基体摩擦磨损性能 | 第59-60页 |
·电流密度对于Ti6Al4V微弧氧化膜层的耐磨性能的影响 | 第60-63页 |
·占空比对于Ti6Al4V微弧氧化膜层耐磨性能的影响 | 第63-66页 |
·氧化时间对于Ti6Al4V微弧氧化膜层耐磨性的影响 | 第66-69页 |
·SiC添加剂对于Ti6Al4V微弧氧化膜层耐磨性能的影响 | 第69-71页 |
·本章小结 | 第71-73页 |
第七章 总结 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-81页 |
致谢 | 第81页 |