金属薄膜各向异性磁电阻与自旋整流效应的研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·自旋整流效应 | 第8-17页 |
| ·自旋整流效应实验现象 | 第8-10页 |
| ·自旋整流效应理论推导 | 第10-17页 |
| ·各向异性磁电阻 | 第17-20页 |
| ·论文研究的问题 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-22页 |
| 第二章 磁性薄膜及薄膜器件的制备与表征 | 第22-30页 |
| ·磁控溅射制备技术介绍 | 第22-23页 |
| ·超净室微加工工艺 | 第23-25页 |
| ·磁性薄膜器件磁性及磁电阻的表征技术 | 第25-28页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FE-SEM) | 第25-26页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第26页 |
| ·表面轮廓分析仪(台阶仪) | 第26页 |
| ·磁力显微镜(MFM) | 第26-27页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第27页 |
| ·磁电测试平台以及AMR效应的表征方式 | 第27-28页 |
| ·磁性薄膜器件自旋整流效应的测量方式 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 磁性薄膜及器件的AMR效应 | 第30-42页 |
| ·射频溅射FeNi薄膜器件的AMR效应 | 第30-32页 |
| ·直流溅射FeNi薄膜器件的AMR效应 | 第32-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 自旋整流效应的研究 | 第42-55页 |
| ·FeNi薄膜自旋发电机器件的自旋整流效应 | 第42-50页 |
| ·自旋整流信号与微波频率的变化关系 | 第43-46页 |
| ·自旋整流效应与外场方向的变化关系 | 第46-49页 |
| ·自旋整流效应与微波功率的变化关系 | 第49-50页 |
| ·FeNi薄膜微米条带器件的自旋整流效应 | 第50-54页 |
| ·自旋整流信号与微波频率的变化关系 | 第51页 |
| ·自旋整流信号与外场方向的变化关系 | 第51-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 结论及展望 | 第55-57页 |
| 总结 | 第55页 |
| 展望 | 第55-57页 |
| 附录 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
