InGaAs-MSM半导体红外探测器阵列研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·引言 | 第8-9页 |
·研究意义 | 第8-9页 |
·研究背景 | 第9页 |
·国内外发展现状 | 第9-12页 |
·焦平面器件和Ⅲ-Ⅴ族半导体红外探测器 | 第12-16页 |
·几种典型的Ⅲ-Ⅴ族半导体红外探测器 | 第12-14页 |
·多元探测器及红外焦平面器件 | 第14-16页 |
·本文的主要任务 | 第16-18页 |
第二章 InGaAs-MSM 红外探测器结构设计 | 第18-42页 |
·基本原理 | 第18-32页 |
·InGaAs 材料特性 | 第18-20页 |
·MSM 结构及工作原理 | 第20-32页 |
·InGaAs-MSM 红外探测器结构 | 第32-37页 |
·外延结构设计 | 第32-36页 |
·器件图形设计 | 第36-37页 |
·探测器的几个重要性能参数 | 第37-40页 |
·响应度和量子效率 | 第38页 |
·暗电流和探测率 | 第38-39页 |
·频率响应 | 第39-40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
第三章 面阵结构和读出电路介绍 | 第42-50页 |
·InGaAs-MSM 面阵探测器设计 | 第42-44页 |
·非制冷红外焦平面工作原理 | 第42-43页 |
·InGaAs-MSM 红外焦平面图形设计 | 第43-44页 |
·读出电路设计 | 第44-49页 |
·读出电路设计相关参数 | 第44-47页 |
·几种典型焦平面读出电路 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第四章 InGaAs-MSM 红外探测器工艺步骤 | 第50-58页 |
·MOCVD 技术和 LP-MOCVD 设备 | 第50-51页 |
·工艺流程 | 第51-56页 |
·外延层的生长 | 第51-53页 |
·电极的制作 | 第53-56页 |
·封装 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第五章 器件测试和实验 | 第58-64页 |
·器件性能测试 | 第58-60页 |
·三维扫描实验 | 第60-64页 |
·实验原理 | 第60-62页 |
·实验结果 | 第62-64页 |
第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
硕士期间参与发表的文章 | 第70-72页 |
致谢 | 第72页 |