| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第1章 前言 | 第13-38页 |
| 1 介孔材料 | 第13-17页 |
| ·介孔材料的概述 | 第13页 |
| ·介孔材料的合成机理 | 第13-15页 |
| ·MSNs 材料的合成与官能化 | 第15-16页 |
| ·MSNs 材料的合成 | 第15-16页 |
| ·MSNs 材料的表面修饰 | 第16页 |
| ·基于纳米介孔二氧化硅的可控制释放系统 | 第16-17页 |
| 2 介孔二氧化钛薄膜材料 | 第17-23页 |
| ·介孔 TiO_2薄膜材料概述 | 第17页 |
| ·介孔 TiO_2材料的合成方法 | 第17-19页 |
| ·纳米 TiO_2的制备 | 第17-18页 |
| ·模板剂法合成介孔 TiO_2 | 第18页 |
| ·非模板法合成介孔 TiO_2 | 第18-19页 |
| ·影响介孔 TiO_2合成的因素 | 第19-20页 |
| ·介孔 TiO_2薄膜合成方法 | 第20页 |
| ·半导体 TiO_2的光电化学的研究进展 | 第20-22页 |
| ·半导体 TiO_2光电化学的基本原理 | 第20-21页 |
| ·二氧化钛纳米晶电极的微结构对光电转化性质的影响因素 | 第21页 |
| ·提高二氧化钛光电化学性能的途径 | 第21-22页 |
| ·二氧化钛纳米材料分析应用 | 第22-23页 |
| 3 电沉积 | 第23-27页 |
| ·电沉积概述 | 第23-24页 |
| ·电沉积纳米晶体材料的原理 | 第24页 |
| ·电沉积的方法 | 第24-25页 |
| ·电沉积薄膜的影响因素 | 第25页 |
| ·电沉积纳米晶体材料采取的工艺措施 | 第25页 |
| ·电沉积法的应用 | 第25-27页 |
| 4 选题背景及国内外研究现状 | 第27-29页 |
| ·选题背景 | 第27页 |
| ·国内外研究现状 | 第27-28页 |
| ·本课题的研究内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-38页 |
| 第2章 基于纳米介孔二氧化硅控制释放系统检测 Pb~(2+) | 第38-54页 |
| 1 引言 | 第38-39页 |
| 2 实验部分 | 第39-41页 |
| ·试剂和仪器 | 第39-40页 |
| ·主要试剂 | 第39-40页 |
| ·仪器装置 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·纳米介孔材料的制备及功能化 | 第40页 |
| ·纳米介孔材料负载荧光素的制备 | 第40页 |
| ·非标记法检测 Pb~(2+) 的过程 | 第40-41页 |
| ·荧光分光光度计检测离心液的荧光强度 | 第41页 |
| 3 结果与讨论 | 第41-49页 |
| ·材料的表征 | 第42-45页 |
| ·TEM 及结果分析 | 第42页 |
| ·Zeta 电势及结果分析 | 第42-43页 |
| ·氮气吸附脱附等温线 | 第43-44页 |
| ·X 射线衍射（XRD）检测 | 第44-45页 |
| ·控制释放体系的条件优化 | 第45-49页 |
| ·氨基修饰底物链（17DS）的优化 | 第45页 |
| ·生物素修饰的 17E 脱氧核酶浓度的优化 | 第45-46页 |
| ·亲和素浓度的优化 | 第46-47页 |
| ·加入 Pb~(2+) 后荧光素释放时间优化 | 第47-48页 |
| ·Pb~(2+) 的检测曲线 | 第48页 |
| ·控制释放系统的选择性 | 第48-49页 |
| 4 小结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第3章 电沉积法制备介孔 TiO_2/CdS 薄膜光电极及光电性质研究 | 第54-66页 |
| 1 引言 | 第54-55页 |
| 2. 实验部分 | 第55-56页 |
| ·实验器材与药品 | 第55-56页 |
| ·实验器材 | 第55页 |
| ·实验药品 | 第55-56页 |
| ·实验过程 | 第56页 |
| ·ITO 电极的处理 | 第56页 |
| ·ITO/TiO_2薄膜基底的制备 | 第56页 |
| ·ITO/TiO_2/CdS 薄膜基底的制备 | 第56页 |
| 3 结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·二氧化钛薄膜的表征 | 第56-59页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第56-57页 |
| ·紫外表征 | 第57-58页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第58页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第58-59页 |
| ·在 ITO/TiO_2上电沉积 CdS 的时间-电流曲线 | 第59页 |
| ·制备 ITO/TiO_2/CdS 薄膜条件的优化 | 第59-63页 |
| ·P123:TMB 质量比优化 | 第59-60页 |
| ·焙烧温度优化 | 第60-61页 |
| ·焙烧时间优化 | 第61-62页 |
| ·ITO/TiO_2薄膜基底上 CdS 沉积时间优化 | 第62页 |
| ·CdS 对介孔二氧化钛薄膜光电性质的影响 | 第62-63页 |
| 4 小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第4章 三乙醇胺对介孔二氧化钛薄膜的光电增强作用初探 | 第66-77页 |
| 1 引言 | 第66-67页 |
| 2. 实验部分 | 第67-68页 |
| ·实验器材与药品 | 第67页 |
| ·实验器材 | 第67页 |
| ·实验药品 | 第67页 |
| ·实验过程 | 第67-68页 |
| ·ITO 电极的处理 | 第67页 |
| ·纳米介孔二氧化钛薄膜的制备 | 第67-68页 |
| ·光致电化学检测二氧化钛薄膜光电流 | 第68页 |
| 3 结果与讨论 | 第68-73页 |
| ·二氧化钛薄膜的表征 | 第68-71页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第68-69页 |
| ·紫外-可见光谱表征 | 第69-70页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第70页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第70-71页 |
| ·ITO/TiO_2薄膜制备条件优化 | 第71-73页 |
| ·焙烧温度优化 | 第71-72页 |
| ·焙烧时间优化 | 第72页 |
| ·三乙醇胺的浓度优化 | 第72-73页 |
| ·三乙醇胺对介孔二氧化钛光电性质影响 | 第73页 |
| 4 小结 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第80-81页 |
