X-Ray数字图像平板探测器阵列基板的设计
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第1章 绪论 | 第9-15页 |
·课题背景 | 第9-10页 |
·国内外 X-Ray 探测发展技术简介 | 第10-12页 |
·胶片成像系统 | 第11页 |
·计算机 X-Ray 成像系统 | 第11-12页 |
·数字 X-Ray 成像系统 | 第12页 |
·研究 X-Ray 平板图像探测器的目的及意义 | 第12-14页 |
·本论文主要研究内容 | 第14-15页 |
第2章 数字 X-Ray 平板探测器工作原理 | 第15-21页 |
·数字化 X-Ray 平板探测器的组成 | 第15-17页 |
·从 X-Ray 转换层角度区分探测器 | 第15-16页 |
·从信号检测的角度区分探测器 | 第16-17页 |
·数字 X-Ray 探测器工作基本原理 | 第17-19页 |
·平板探测器 Array 阵列基板的设计指标 | 第19页 |
·本章小结 | 第19-21页 |
第3章 TFT 阵列基板的工艺研究 | 第21-36页 |
·掩膜曝光—光刻工艺 | 第21-23页 |
·磁控溅射 Sputter 镀膜工艺 | 第23-26页 |
·磁控溅射的原理 | 第23-25页 |
·Sputter 溅射工艺的条件 | 第25-26页 |
·等离子体增强化学气相淀积 PECVD 工艺 | 第26-32页 |
·等离子体与成膜原理 | 第27-28页 |
·TFT 薄膜的生成机制 | 第28-30页 |
·PECVD 设备系统 | 第30-32页 |
·刻蚀工艺 | 第32-35页 |
·干法刻蚀 | 第32-34页 |
·湿法刻蚀 | 第34-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第4章 TFT 阵列基板的设计 | 第36-46页 |
·版图绘制 | 第36-39页 |
·像素等效电路及充电率模拟 | 第39-41页 |
·开态电流与关态电流 | 第41-43页 |
·跳变电压与延迟分析 | 第43-45页 |
·跳变电压 | 第43-44页 |
·延迟分析 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第5章 Array 基板流片及结果测试 | 第46-51页 |
·像素阵列图案鉴定 | 第46-47页 |
·SEM 扫描电镜测试分析 | 第47-49页 |
·I/V 特性曲线测试 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
结论与展望 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-58页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |