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X-Ray数字图像平板探测器阵列基板的设计

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第1章 绪论第9-15页
   ·课题背景第9-10页
   ·国内外 X-Ray 探测发展技术简介第10-12页
     ·胶片成像系统第11页
     ·计算机 X-Ray 成像系统第11-12页
     ·数字 X-Ray 成像系统第12页
   ·研究 X-Ray 平板图像探测器的目的及意义第12-14页
   ·本论文主要研究内容第14-15页
第2章 数字 X-Ray 平板探测器工作原理第15-21页
   ·数字化 X-Ray 平板探测器的组成第15-17页
     ·从 X-Ray 转换层角度区分探测器第15-16页
     ·从信号检测的角度区分探测器第16-17页
   ·数字 X-Ray 探测器工作基本原理第17-19页
   ·平板探测器 Array 阵列基板的设计指标第19页
   ·本章小结第19-21页
第3章 TFT 阵列基板的工艺研究第21-36页
   ·掩膜曝光—光刻工艺第21-23页
   ·磁控溅射 Sputter 镀膜工艺第23-26页
     ·磁控溅射的原理第23-25页
     ·Sputter 溅射工艺的条件第25-26页
   ·等离子体增强化学气相淀积 PECVD 工艺第26-32页
     ·等离子体与成膜原理第27-28页
     ·TFT 薄膜的生成机制第28-30页
     ·PECVD 设备系统第30-32页
   ·刻蚀工艺第32-35页
     ·干法刻蚀第32-34页
     ·湿法刻蚀第34-35页
   ·本章小结第35-36页
第4章 TFT 阵列基板的设计第36-46页
   ·版图绘制第36-39页
   ·像素等效电路及充电率模拟第39-41页
   ·开态电流与关态电流第41-43页
   ·跳变电压与延迟分析第43-45页
     ·跳变电压第43-44页
     ·延迟分析第44-45页
   ·本章小结第45-46页
第5章 Array 基板流片及结果测试第46-51页
   ·像素阵列图案鉴定第46-47页
   ·SEM 扫描电镜测试分析第47-49页
   ·I/V 特性曲线测试第49-50页
   ·本章小结第50-51页
结论与展望第51-52页
参考文献第52-58页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第58-59页
致谢第59页

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