| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-32页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第14-15页 |
| ·课题来源 | 第14页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第14-15页 |
| ·磁流变液技术及磁流变器件应用技术的研究现状 | 第15-21页 |
| ·磁流变液技术的发展及现状 | 第15-17页 |
| ·磁流变液的工程应用 | 第17-21页 |
| ·气囊抛光技术的发展及研究现状 | 第21-30页 |
| ·气囊抛光装置及抛光机理 | 第21-24页 |
| ·气囊抛光工具 | 第24-26页 |
| ·气囊抛光相关技术研究 | 第26-30页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第30-32页 |
| 第2章 气囊抛光接触特性研究 | 第32-50页 |
| ·气囊抛光的微切削模型 | 第32-36页 |
| ·抛光膜与磨粒 | 第33-35页 |
| ·磨料材料去除机理 | 第35-36页 |
| ·气囊抛光中的接触变形 | 第36-48页 |
| ·气囊抛光过程中的接触力 | 第36-38页 |
| ·抛光头、工件及磨粒三者间的法向位移变化过程 | 第38-39页 |
| ·研抛力与法向位移模型 | 第39-46页 |
| ·耦合模型 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第3章 基于 MRT 的气囊抛光系统试验样机的研制 | 第50-62页 |
| ·气囊抛光的工作原理 | 第50-51页 |
| ·基于 MRT 的气囊抛光系统样机结构 | 第51-52页 |
| ·基于 MRT 力矩伺服的气囊抛光系统硬件结构组成 | 第52-60页 |
| ·MRT 力矩伺服装置 | 第52-56页 |
| ·力矩传递装置 | 第56页 |
| ·直流电机 | 第56-57页 |
| ·同步齿形带 | 第57页 |
| ·力矩传感器 | 第57-58页 |
| ·可编程直流电源 | 第58-59页 |
| ·数据采集卡 | 第59-60页 |
| ·气囊抛光工具系统的进给运动 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 基于 MRT 的气囊抛光材料去除模型建立 | 第62-68页 |
| ·气囊抛光过程中材料去除机理 | 第62-63页 |
| ·气囊抛光材料去除模型建立 | 第63-66页 |
| ·Preston 假设 | 第63-64页 |
| ·气囊抛光材料去除模型 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 基于 MRT 的气囊抛光控制系统建模与仿真 | 第68-82页 |
| ·控制系统组成及性能分析 | 第68-69页 |
| ·控制系统各组成部分的模型辨识 | 第69-73页 |
| ·控制器 | 第69页 |
| ·可控电流源 | 第69页 |
| ·磁流变力矩伺服装置（MRT） | 第69-70页 |
| ·力矩传递机构 | 第70-72页 |
| ·气囊抛光工具系统的传递函数 | 第72-73页 |
| ·控制系统算法分析 | 第73-74页 |
| ·控制系统软件设计 | 第74-78页 |
| ·机床数控代码生成 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 第6章 基于 MRT 的气囊抛光实验研究 | 第82-92页 |
| ·系统中硬件实验条件 | 第82-83页 |
| ·基于 MRT 的气囊抛光工艺实验研究 | 第83-86页 |
| ·励磁电压对抛光接触区特性的影响 | 第84页 |
| ·气囊姿态角对抛光接触区特性的影响 | 第84-85页 |
| ·气囊压缩量对抛光接触区特性的影响 | 第85页 |
| ·气囊转速对抛光接触区特性的影响 | 第85-86页 |
| ·影响气囊抛光接触区特征的相关参数取值范围 | 第86页 |
| ·工艺参数对气囊抛光去除率影响 | 第86-88页 |
| ·气囊旋转速度对气囊抛光材料去除量的影响 | 第86-87页 |
| ·气囊压缩量对气囊抛光材料去除率的影响 | 第87页 |
| ·励磁电流对气囊抛光材料去除率的影响 | 第87页 |
| ·抛光膜几何尺寸对抛光效率的影响 | 第87-88页 |
| ·气囊抛光实验 | 第88-90页 |
| ·加工效果对比 | 第88-89页 |
| ·表面粗糙度对比 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 第7章 结论与展望 | 第92-94页 |
| ·结论 | 第92-93页 |
| ·展望 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-104页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文和参加的科研工作 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105页 |
