| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·金刚石结构、性质及应用 | 第9-13页 |
| ·金刚石结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石薄膜的主要性质 | 第10-12页 |
| ·金刚石薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·金刚石薄膜的制备发展 | 第13-16页 |
| ·人工合成金刚石薄膜的发展历程 | 第13-14页 |
| ·金刚石薄膜的沉积方法 | 第14-16页 |
| ·金刚石薄膜表面处理的国内外现状及存在问题 | 第16-18页 |
| ·金刚石薄膜表面处理的国内外现状 | 第16-17页 |
| ·金刚石薄膜表面处理存在的问题 | 第17-18页 |
| ·本文的选题意义和主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-29页 |
| ·MPCVD 制备金刚石薄膜 | 第20-23页 |
| ·MPCVD 制备金刚石薄膜系统 | 第20-22页 |
| ·MPCVD 沉积金刚石薄膜实验流程 | 第22-23页 |
| ·金刚石薄膜刻蚀技术 | 第23-26页 |
| ·等离子体刻蚀金刚石薄膜的机理 | 第24-25页 |
| ·ICP 等离子体刻蚀金刚石薄膜的系统 | 第25-26页 |
| ·等离子体刻蚀金刚石薄膜的工艺 | 第26页 |
| ·实验结果的表征方法 | 第26-29页 |
| 第三章 MPCVD 制备金刚石薄膜的工艺研究 | 第29-41页 |
| ·薄膜制备工艺研究 | 第29-37页 |
| ·碳源浓度对金刚石薄膜的影响 | 第29-32页 |
| ·微波功率和工作压强对金刚石薄膜的影响 | 第32-35页 |
| ·沉积时间对金刚石薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·分步沉积薄膜工艺研究 | 第37-39页 |
| ·变功率条件下对金刚石薄膜的影响 | 第37-39页 |
| ·变反应气体比例对金刚石薄膜的影响 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 金刚石薄膜的表面处理 | 第41-52页 |
| ·刻蚀功率对ICP 氧等离子体刻蚀金刚石薄膜的影响 | 第42-47页 |
| ·刻蚀功率对金刚石薄膜刻蚀速率的影响 | 第42-43页 |
| ·刻蚀功率对薄膜表面形貌的影响 | 第43-46页 |
| ·刻蚀功率对金刚石薄膜表面成分的影响 | 第46-47页 |
| ·氧气流量对刻蚀工艺的影响 | 第47-49页 |
| ·0_2/Ar 对刻蚀金刚石薄膜的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |