无氰化学镀金工艺的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-22页 |
·化学镀金概述 | 第9-11页 |
·化学镀金 | 第9-10页 |
·印刷电路板上的化学镀镍/金 | 第10-11页 |
·化学镀金分类 | 第11-14页 |
·镀金分类 | 第11-12页 |
·化学镀金机制 | 第12-14页 |
·化学镀金液的组成及工艺条件 | 第14-16页 |
·金盐及络合剂 | 第14-15页 |
·还原剂及添加剂 | 第15-16页 |
·工艺条件 | 第16页 |
·无氰化学镀金液的发展 | 第16-20页 |
·亚硫酸盐体系 | 第17-18页 |
·硫代硫酸盐体系 | 第18页 |
·卤化物体系 | 第18-19页 |
·其它体系 | 第19-20页 |
·复合络合剂体系 | 第20页 |
·本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
第2章 实验药品及方法 | 第22-27页 |
·实验药品及仪器 | 第22-23页 |
·工艺流程 | 第23-24页 |
·镀层及镀液性能测试 | 第24-26页 |
·镀层厚度及表面形貌测试 | 第24页 |
·Ni/Au 结合力测试 | 第24页 |
·硫含量测试 | 第24-25页 |
·耐蚀性测试 | 第25页 |
·镀液稳定性测试 | 第25-26页 |
·阳极极化曲线测试 | 第26-27页 |
第3章 置换型无氰化学镀金的研究 | 第27-39页 |
·置换型无氰化学镀金工艺的确定及性能测试 | 第27-29页 |
·工艺的确定 | 第27-28页 |
·镀液及镀层性能测试 | 第28-29页 |
·镀液对镍离子耐受能力的研究 | 第29-31页 |
·添加金属屏蔽剂的研究 | 第31-34页 |
·添加2-巯基苯并噻唑的研究 | 第31-33页 |
·添加苯并三氮唑的研究 | 第33-34页 |
·金离子浓度范围的研究 | 第34-36页 |
·Au 标准液的配制及标准曲线的测量 | 第34页 |
·待测样品溶液的配制及测量 | 第34-35页 |
·金离子浓度范围的确定 | 第35-36页 |
·镀液维护及周期实验 | 第36-38页 |
·金盐的补加 | 第36页 |
·其它组分的补加 | 第36-37页 |
·镀液维护方法的初步确定 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第4章 无氰化学镀金还原剂体系的研究 | 第39-53页 |
·硫脲体系 | 第39-42页 |
·硫脲浓度对镀液及镀层性能的影响 | 第39-40页 |
·添加剂对镀液及镀层性能的影响 | 第40-41页 |
·阳极极化曲线测试 | 第41-42页 |
·抗坏血酸体系 | 第42-45页 |
·抗坏血酸浓度对镀液及镀层性能的影响 | 第42-43页 |
·添加剂对镀液及镀层性能的影响 | 第43-44页 |
·阳极极化曲线测试 | 第44-45页 |
·葡萄糖酸钠体系 | 第45-47页 |
·葡萄糖酸钠浓度对镀液及镀层性能的影响 | 第45-46页 |
·阳极极化曲线测试 | 第46-47页 |
·次亚磷酸钠体系 | 第47-50页 |
·次亚磷酸钠浓度对镀液及镀层性能的影响 | 第47-48页 |
·添加剂对镀液及镀层性能的影响 | 第48-49页 |
·阳极极化曲线测试 | 第49-50页 |
·还原剂体系的选择 | 第50-51页 |
·镀液及镀层性能比较 | 第50-51页 |
·阳极极化曲线比较 | 第51页 |
·还原剂体系的确定 | 第51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第5章 还原型无氰化学镀金工艺优化及机制初探 | 第53-63页 |
·正交实验 | 第53-56页 |
·实验设计 | 第53-54页 |
·实验测试结果及分析 | 第54-56页 |
·实验结果优化 | 第56页 |
·还原型无氰化学镀金工艺的确定及性能测试 | 第56-58页 |
·工艺的确定 | 第56-57页 |
·镀液及镀层性能测试 | 第57-58页 |
·还原型化学镀金机制初探 | 第58-61页 |
·自催化反应机制的验证 | 第59-60页 |
·置换反应机制的验证 | 第60-61页 |
·时间对镀层微观形貌的作用 | 第61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
致谢 | 第71页 |