| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-16页 |
| 1．1 核聚变反应堆简介 | 第7-8页 |
| 1．2 聚变堆包层的结构 | 第8-9页 |
| 1．3 产氚包层材料的选择 | 第9-10页 |
| 1．4 防氚渗透阻挡层材料的选择及发展概况 | 第10-14页 |
| 1．5 本工作的研究目的和任务来源 | 第14-16页 |
| 第二章 氢同位素渗透的理论基础及模型 | 第16-22页 |
| 2．1 氢同位素与材料的相互作用 | 第16-17页 |
| 2．2 氢同位素的渗透模型 | 第17-22页 |
| 第三章 涂层制备技术简介 | 第22-27页 |
| 3．1 真空蒸镀 | 第22-23页 |
| 3．2 溅射 | 第23页 |
| 3．3 离子镀 | 第23-27页 |
| 3．4 热浸镀 | 第27页 |
| 第四章 气相氢同位素渗透测量方法简介 | 第27-31页 |
| 4．1 氢气相渗透原理 | 第27-28页 |
| 4．2 氢同位素渗透测量的不同实验方法 | 第28-31页 |
| 第五章 复合膜作为防氚渗透阻挡层的性能研究 | 第31-45页 |
| 5．1 引论 | 第31页 |
| 5．2 实验过程 | 第31-34页 |
| 5．3 结果与讨论 | 第34-43页 |
| 5．4 小结 | 第43-45页 |
| 第六章 单层SiC膜作为防氚渗透阻挡层的制备及性能研究 | 第45-54页 |
| 6．1 引论 | 第45页 |
| 6．2 实验过程 | 第45-47页 |
| 6．3 结果与讨论 | 第47-52页 |
| 6．4 小结 | 第52-54页 |
| 第七章 热浸铝涂层作为防氚渗透阻挡层的性能研究 | 第54-63页 |
| 7．1 引论 | 第54-55页 |
| 7．2 实验过程 | 第55-56页 |
| 7．3 结果与讨论 | 第56-61页 |
| 7．4 小结 | 第61-63页 |
| 第八章 总结 | 第63-65页 |
| 8．1 防氚渗透涂层制备工艺 | 第63页 |
| 8．2 防氚渗透性能 | 第63-64页 |
| 8．3 防氚渗透机理探讨 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |