二氧化钒薄膜的制备及其光学电学特性研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·二氧化钒的晶体结构 | 第14-16页 |
| ·二氧化钒薄膜的相变特性 | 第16-18页 |
| ·VO_2薄膜的典型性质 | 第18-20页 |
| ·二氧化钒薄膜的应用 | 第20-21页 |
| ·本论文研究的内容 | 第21-22页 |
| 2 二氧化钒薄膜的制备 | 第22-31页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第22-25页 |
| ·溅射镀膜及其特点 | 第25-26页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第26-29页 |
| ·实验操作 | 第29-30页 |
| ·样品制备的工艺过程 | 第30-31页 |
| 3 二氧化钒薄膜的性质研究 | 第31-51页 |
| ·X射线衍射 | 第31-34页 |
| ·X射线衍射原理 | 第31-32页 |
| ·测试仪器 | 第32页 |
| ·测试结果 | 第32-34页 |
| ·二氧化钒薄膜的电学性质 | 第34-40页 |
| ·薄膜电阻测试方法 | 第34-35页 |
| ·薄膜电阻测试仪器 | 第35-36页 |
| ·薄膜电阻测试结果 | 第36-40页 |
| ·薄膜电阻测试结果总结 | 第40页 |
| ·二氧化钒薄膜的光学性质 | 第40-48页 |
| ·二氧化钒薄膜的红外透射率 | 第40-43页 |
| ·实验原理 | 第40-41页 |
| ·实验装置 | 第41-42页 |
| ·测试结果 | 第42-43页 |
| ·测试结果分析 | 第43页 |
| ·二氧化钒薄膜的光学常数 | 第43-48页 |
| ·实验原理 | 第44-46页 |
| ·实验装置 | 第46页 |
| ·测试结果 | 第46-48页 |
| ·实验情况对比分析 | 第48-49页 |
| ·普通玻璃和石英衬底的VO_2(M)薄膜比较 | 第48-49页 |
| ·VO_2(M)薄膜与VO_2(B)薄膜的比较 | 第49页 |
| ·热滞现象 | 第49页 |
| ·今后的工作任务 | 第49-51页 |
| 4 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 作者简历 | 第56-58页 |
| 学位论文数据集 | 第58页 |
