| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-27页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·低辐射镀膜玻璃 | 第8-19页 |
| ·低辐射镀膜玻璃的节能原理 | 第8-11页 |
| ·低辐射镀膜玻璃的功能特点 | 第11-12页 |
| ·低辐射玻璃的节能性能表征 | 第12-13页 |
| ·低辐射玻璃的国内外研究现状及存在的问题 | 第13-16页 |
| ·低辐射玻璃的应用 | 第16-17页 |
| ·低辐射镀膜玻璃制备技术 | 第17-19页 |
| ·氮化钛薄膜 | 第19-25页 |
| ·氮化钛薄膜的特性 | 第19页 |
| ·氮化钛薄膜的国内外研究现状 | 第19-22页 |
| ·常用的氮化钛薄膜制备工艺 | 第22-23页 |
| ·氮化钛薄膜的应用 | 第23-25页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第25-26页 |
| ·课题创新之处 | 第26-27页 |
| 2 溅射镀膜原理 | 第27-31页 |
| ·溅射机理及特点 | 第27-28页 |
| ·基本溅射类型 | 第28-31页 |
| ·直流溅射 | 第28-29页 |
| ·射频溅射 | 第29页 |
| ·反应溅射 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射 | 第30-31页 |
| 3 实验 | 第31-37页 |
| ·实验设备和材料 | 第31页 |
| ·基片前处理 | 第31-32页 |
| ·薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·实验方案的确定 | 第33-34页 |
| ·制备氮化钛薄膜的实验方案 | 第33页 |
| ·制备低辐射薄膜的实验方案 | 第33-34页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第34-37页 |
| 4 氮化钛薄膜的制备及性能研究 | 第37-47页 |
| ·工艺参数对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第37-40页 |
| ·氮分量对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第37-38页 |
| ·功率对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第38-39页 |
| ·溅射时间对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第39-40页 |
| ·氮化钛薄膜的厚度分析 | 第40-41页 |
| ·氮化钛薄膜的组成和结构分析 | 第41-45页 |
| ·氮化钛薄膜的结构分析(XRD) | 第41-42页 |
| ·氮化钛的表面形貌分析(STM) | 第42-43页 |
| ·氮化钛薄膜光电子能谱分析(XPS) | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 5 TIN_X/SIO_2/AG/SIO_2低辐射膜的制备及其性能研究 | 第47-61页 |
| ·银膜的制备和性能研究 | 第47-50页 |
| ·工艺参数对银膜电学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·银膜的光学性能 | 第49-50页 |
| ·SiO_2对复合膜性能的影响 | 第50-52页 |
| ·TiN_x对SiO_2/Ag/SiO_2复合膜性能的影响 | 第52-61页 |
| ·TiN_x对SiO_2/Ag/SiO_2复合膜光学性能的影响 | 第52页 |
| ·TiN_x对SiO_2/Ag/SiO_2复合膜附着力和化学性能的影响 | 第52-58页 |
| ·TiN_x对SiO_2/Ag/SiO_2低辐射薄膜辐射率和遮阳系数的计算 | 第58-61页 |
| 6 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 附录 | 第68-72页 |
