| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-13页 |
| ·概述 | 第9页 |
| ·地下水中硫酸根、氟离子的来源 | 第9-10页 |
| ·地下水中硫酸根的来源 | 第9-10页 |
| ·地下水中氟的来源 | 第10页 |
| ·硫酸根、氟离子超标的负面效应 | 第10-12页 |
| ·硫酸根浓度超标的负面效应 | 第10-11页 |
| ·氟离子浓度超标的负面效应 | 第11-12页 |
| ·饮用水关于硫酸根、氟离子限值的规定 | 第12-13页 |
| 2 去除水中硫酸根、氟离子的技术发展与应用分析 | 第13-25页 |
| ·去除水中硫酸根的技术发展与应用分析 | 第13-16页 |
| ·氯化钡法 | 第13页 |
| ·氯化钙法 | 第13页 |
| ·树脂法 | 第13-14页 |
| ·冷冻法 | 第14页 |
| ·膜法 | 第14-15页 |
| ·电渗析膜法 | 第15-16页 |
| ·去除水中氟离子的技术发展与应用分析 | 第16-21页 |
| ·吸附法 | 第16-18页 |
| ·电凝聚法 | 第18页 |
| ·反渗透法 | 第18页 |
| ·离子交换法 | 第18-19页 |
| ·化学沉淀法 | 第19-20页 |
| ·混凝沉降法 | 第20-21页 |
| ·电渗析法 | 第21页 |
| ·铝酸钙粉在水处理领域的应用与特性 | 第21-23页 |
| ·铝酸钙粉的成分 | 第22页 |
| ·铝酸钙粉的物化性质 | 第22页 |
| ·铝酸钙粉的产生途径 | 第22页 |
| ·铝酸钙粉的应用范围 | 第22页 |
| ·铝酸钙粉的使用方法 | 第22-23页 |
| ·氧化铝的溶出 | 第23页 |
| ·试验研究的目的与意义 | 第23-24页 |
| ·试验的主要研究内容 | 第24-25页 |
| 3 试验设计与分析方法 | 第25-30页 |
| ·试验的研究方法 | 第25页 |
| ·铝酸钙粉对水中硫酸根离子的去除效果研究 | 第25页 |
| ·铝酸钙粉对水中氟离子的去除效果研究 | 第25页 |
| ·试验的操作条件 | 第25-27页 |
| ·试剂的配制 | 第25-26页 |
| ·试验主要仪器和化学药品 | 第26-27页 |
| ·试验的分析检测方法的确定 | 第27-30页 |
| ·离子色谱法的测定原理 | 第28页 |
| ·离子色谱法的干扰及消除 | 第28页 |
| ·离子色谱法的仪器和设备 | 第28页 |
| ·样品的采集与保存 | 第28-29页 |
| ·试验检测条件与步骤 | 第29-30页 |
| 4 铝酸钙粉的物化性能表征 | 第30-31页 |
| 5 试验数据处理与结果分析 | 第31-43页 |
| ·铝酸钙粉去除硫酸根的试验 | 第31-35页 |
| ·激光粒度分布仪粒径分析 | 第31页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第31-32页 |
| ·电镜扫描（SEM）分析 | 第32页 |
| ·铝酸钙粉与硫酸根反应机理 | 第32页 |
| ·反应条件的影响 | 第32-35页 |
| ·铝酸钙粉去除氟离子的试验 | 第35-43页 |
| ·激光粒度分布仪粒径分析 | 第35页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第35-36页 |
| ·电镜扫描（SEM）分析 | 第36页 |
| ·光电能谱（XPS）分析 | 第36页 |
| ·铝酸钙粉与氟离子反应机理 | 第36-37页 |
| ·反应条件对氟离子去除效果的影响 | 第37-39页 |
| ·吸附动力学分析 | 第39-41页 |
| ·吸附等温式模型 | 第41-43页 |
| 6 工程实现 | 第43-53页 |
| ·铝酸钙粉去除硫酸根、氟离子反应生成物的过水比阻测定 | 第43-47页 |
| ·铝酸钙去除硫酸根生成物的过水比阻测定 | 第44-45页 |
| ·铝酸钙粉去除氟离子沉积物的过水比阻测定 | 第45-47页 |
| ·铝酸钙粉与硫酸根、氟离子反应生成物的粒径分析 | 第47-48页 |
| ·预涂动态膜的技术发展与应用分析 | 第48-53页 |
| ·动态膜的概念和分类 | 第48-49页 |
| ·动态膜的成膜原理 | 第49页 |
| ·动态膜形成的影响因素 | 第49-51页 |
| ·动态膜的清洗 | 第51页 |
| ·动态膜在水处理中的应用展望 | 第51-53页 |
| 7 试验研究结论与建议 | 第53-55页 |
| ·试验结论 | 第53-54页 |
| ·建议 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |