聚焦纹影系统设计及在风洞中的应用
致谢 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第13-32页 |
1.1 研究背景 | 第13页 |
1.2 纹影技术的发展 | 第13-16页 |
1.3 背景纹影技术概述 | 第16-20页 |
1.4 聚焦纹影技术的发展 | 第20-30页 |
1.5 本文的研究内容和目的 | 第30-31页 |
1.6 本章小结 | 第31-32页 |
第2章 聚焦纹影的基本原理 | 第32-41页 |
2.1 可压缩流的光学显示原理 | 第32-33页 |
2.2 纹影的基本原理 | 第33-37页 |
2.3 聚焦纹影技术的基本原理 | 第37-40页 |
2.4 本章小结 | 第40-41页 |
第3章 聚焦纹影系统设计 | 第41-60页 |
3.1 系统总体布局 | 第41-42页 |
3.2 系统技术设计 | 第42-46页 |
3.2.1 视场大小 | 第42-43页 |
3.2.2 光源的选择 | 第43页 |
3.2.3 源格栅的制作方法 | 第43-44页 |
3.2.4 聚焦深度 | 第44页 |
3.2.5 灵敏度 | 第44-45页 |
3.2.6 图像质量 | 第45-46页 |
3.3 初步设计及简易系统调试 | 第46-49页 |
3.4 提高图像亮度均匀性 | 第49-50页 |
3.5 机械设计 | 第50-56页 |
3.5.1 光源端设计 | 第51-53页 |
3.5.2 接收端设计 | 第53-56页 |
3.6 系统调试及测试 | 第56-59页 |
3.7 本章小结 | 第59-60页 |
第4章 聚焦纹影在风洞中的应用 | 第60-71页 |
4.1 试验设备 | 第60-63页 |
4.1.1 风洞 | 第60-62页 |
4.1.2 成像设备 | 第62-63页 |
4.2 光路布局 | 第63-64页 |
4.3 试验流程 | 第64-65页 |
4.4 试验结果及分析 | 第65-70页 |
4.4.1 聚焦深度验证试验 | 第65-66页 |
4.4.2 平窗模型显示结果 | 第66-68页 |
4.4.3 凹窗模型试验结果 | 第68-70页 |
4.5 本章小结 | 第70-71页 |
第5章 反射式聚焦纹影系统设计与实现 | 第71-80页 |
5.1 技术指标 | 第71页 |
5.2 总体方案 | 第71-72页 |
5.3 设计及实现过程 | 第72-74页 |
5.3.1 参数计算 | 第72-73页 |
5.3.2 光源和刀口栅制作 | 第73-74页 |
5.3.3 聚焦透镜选择 | 第74页 |
5.3.4 成像采集 | 第74页 |
5.4 实验结果 | 第74-78页 |
5.4.1 栅格及照明装置的表现 | 第74-75页 |
5.4.2 切割光栅制作效果 | 第75-76页 |
5.4.3 流场显示能力 | 第76-77页 |
5.4.4 图像处理结果 | 第77-78页 |
5.5 该布局在风洞上的适用性 | 第78页 |
5.6 本章小结 | 第78-80页 |
第6章 总结与展望 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
作者简历 | 第84页 |