| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一部分 普鲁士蓝及类普鲁士蓝化学修饰电极综述 | 第10-30页 |
| 1 化学修饰电极的发展过程 | 第10-11页 |
| 2 化学修饰电极的修饰类型 | 第11-12页 |
| ·电极的预处理 | 第11-12页 |
| ·化学修饰电极的材料分类 | 第12页 |
| 3 过渡金属铁氰化物的结构和性质 | 第12-15页 |
| ·过渡金属铁氰化物的结构 | 第12-13页 |
| ·过渡金属铁氰化物修饰电极的制备 | 第13-14页 |
| ·电化学共沉积法 | 第13-14页 |
| ·化学合成法 | 第14页 |
| ·新生金属法 | 第14页 |
| ·多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极的电化学性质 | 第14-15页 |
| 4 化学修饰电极的表征 | 第15-17页 |
| ·循环伏安法 | 第16页 |
| ·计时电流法和计时库仑法 | 第16页 |
| ·计时电位法 | 第16页 |
| ·脉冲伏安法 | 第16-17页 |
| ·电化学交流阻抗谱(EIS) | 第17页 |
| ·扫描电化学显微镜法(SECM法)和其它表面分析技术 | 第17页 |
| 5 多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰膜的应用 | 第17-18页 |
| ·化学修饰电极 | 第17-18页 |
| ·电化学催化 | 第17页 |
| ·物质检测 | 第17-18页 |
| ·生物传感器 | 第18页 |
| ·电池电极材料 | 第18页 |
| ·电显色性能 | 第18页 |
| 6 多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极的展望 | 第18-19页 |
| 7 本论文主要的工作内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-30页 |
| 第二部分 新型配位 Eu~(3+)掺杂的类普鲁士蓝化学修饰电极的制备 | 第30-41页 |
| 1 引言 | 第30页 |
| 2 实验部分 | 第30-31页 |
| ·仪器和试剂 | 第30页 |
| ·修饰电极的制备 | 第30-31页 |
| 3 制备条件的优化 | 第31-33页 |
| ·修饰液中各组成成份的配比 | 第31页 |
| ·修饰液中配位物质种类和酸度的选择 | 第31-32页 |
| ·扫描速度对修饰电极稳定性的影响 | 第32页 |
| ·电沉积镀膜过程中外加磁场的影响 | 第32-33页 |
| 4 稀土 Eu~(3+)配位的普鲁士蓝化学修饰电极电化学行为 | 第33-39页 |
| ·Eu-PB/Pt的循环伏安响应 | 第33-35页 |
| ·修饰电极峰电流与扫描速度的关系 | 第35-36页 |
| ·修饰电极在不同底液中的伏安行为 | 第36-37页 |
| ·修饰电极的交流阻抗谱图 | 第37页 |
| ·修饰膜材料的荧光光谱 | 第37-38页 |
| ·修饰膜材料的拉曼光谱 | 第38-39页 |
| 5 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三部分 分析应用研究 | 第41-72页 |
| I 新型配位甘氨酸-铕离子掺杂类普鲁士蓝化学修饰电极对三联吡啶合钌(II)的电催化氧化及其电致化学发光性能的研究 | 第41-50页 |
| 1 引言 | 第41-42页 |
| 2 实验部分 | 第42页 |
| ·仪器和试剂 | 第42页 |
| ·电极制备 | 第42页 |
| 3 结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·Ru(bpy)_3~(2+)在化学修饰电极上的伏安特性 | 第42-44页 |
| ·化学修饰电极的制备条件对 Ru(bpy)_3~(2+)电催化氧化活性的影响 | 第44-45页 |
| ·修饰膜厚度的影响 | 第44-45页 |
| ·修饰电极上 Ru(bpy)_3~(2+)电催化氧化作用的稳定性 | 第45页 |
| ·修饰电极上 Ru(bpy)_3~(2+)的电致化学发光特性 | 第45-46页 |
| 4 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| II 对乙酰氨基酚在配位 Eu~(3+)掺杂的类普鲁士蓝化学修饰电极上的电化学行为及其分析应用研究 | 第50-62页 |
| 1 引言 | 第50-51页 |
| 2 实验部分 | 第51页 |
| ·仪器和试剂 | 第51页 |
| ·修饰电极的制备 | 第51页 |
| 3 结果与讨论 | 第51-59页 |
| ·对乙酰氨基酚在修饰电极上的电化学行为 | 第51-54页 |
| ·底液的选择 | 第54页 |
| ·扫速的影响 | 第54-55页 |
| ·pH的影响 | 第55-56页 |
| ·修饰量对示差脉冲伏安电流的影响 | 第56-57页 |
| ·线性范围、检测限和相对标准偏差 | 第57页 |
| ·干扰实验 | 第57页 |
| ·样品测定 | 第57页 |
| ·稳定性与重现性 | 第57-58页 |
| ·与ACOP其它电化学测定方法的比较 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| III 抗坏血酸在甘氨酸-铕离子掺杂类普鲁士蓝化学修饰电极上的电化学行为及其分析应用研究 | 第62-72页 |
| 1 引言 | 第62-63页 |
| 2 实验部分 | 第63页 |
| ·仪器和试剂 | 第63页 |
| ·修饰电极的制备 | 第63页 |
| 3 结果与讨论 | 第63-68页 |
| ·AA在修饰电极上的电催化氧化 | 第63-65页 |
| ·支持电解质、溶液的pH对示差脉冲伏安响应的影响 | 第65页 |
| ·线性范围和检出限 | 第65-66页 |
| ·修饰电极的稳定性 | 第66-67页 |
| ·干扰实验 | 第67页 |
| ·样品测定 | 第67-68页 |
| ·处理过程 | 第67页 |
| ·测定结果 | 第67页 |
| ·与抗坏血酸其它电化学测定方法的比较 | 第67-68页 |
| 4 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 发表论文目录 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
